Studies of the distribution of microhardness by the depth of zirconium alloy E110 after irradiation with pulsed electron beam and hydrogenation; Перспективы развития фундаментальных наук
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 60-62] |
|---|---|
| Yazar: | |
| Müşterek Yazar: | |
| Diğer Yazarlar: | |
| Özet: | Заглавие с экрана Проведено исследование влияния облучения импульсным электронным пучком и последующего наводороживания на распределение микротвердости по поперечному шлифу циркониевого сплава Э110. Показано, что наводороживание приводит к незначительному росту твердости только на небольшой глубине, что говорит о том, что водород не проникает в глубину образцов, а локализуется в тонком поверхностном слое. Такой результат подтверждается исследованием распределения водорода по глубине циркониевого сплава после облучения и наводороживания. |
| Dil: | İngilizce |
| Baskı/Yayın Bilgisi: |
2015
|
| Seri Bilgileri: | Физика |
| Konular: | |
| Online Erişim: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19200 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/011.pdf |
| Materyal Türü: | MixedMaterials Elektronik Kitap Bölümü |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=612924 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 612924 | ||
| 005 | 20231101132730.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\conf\11055 | ||
| 035 | |a RU\TPU\conf\11054 | ||
| 090 | |a 612924 | ||
| 100 | |a 20150701d2015 k y0rusy50 ba | ||
| 101 | 0 | |a eng |d rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 105 | |a a z 101zy | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Studies of the distribution of microhardness by the depth of zirconium alloy E110 after irradiation with pulsed electron beam and hydrogenation |d Исследование распределения микротвердости по глубине циркониевого сплава Э110 после облучения импульсным электронным пучком и наводороживания |f М. Н. Бабихина |g науч. рук. В. Н. Кудияров | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 215 | |a 1 файл(209 Кб) | ||
| 225 | 1 | |a Физика | |
| 230 | |a Электронные текстовые данные (1 файл: 209 Кб) | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 62 (3 назв.)] | ||
| 330 | |a Проведено исследование влияния облучения импульсным электронным пучком и последующего наводороживания на распределение микротвердости по поперечному шлифу циркониевого сплава Э110. Показано, что наводороживание приводит к незначительному росту твердости только на небольшой глубине, что говорит о том, что водород не проникает в глубину образцов, а локализуется в тонком поверхностном слое. Такой результат подтверждается исследованием распределения водорода по глубине циркониевого сплава после облучения и наводороживания. | ||
| 337 | |a Adobe Reader | ||
| 463 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\10376 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of fundamental sciences development |o сборник научных трудов XII Международной конференция студентов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2015 г. |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ) ; Томский государственный архитектурно-строительный университет (ТГАСУ) ; Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР) ; ред. кол. И. А. Курзина ; Г. А. Воронова ; С. А. Поробова |v [С. 60-62] |d 2015 | |
| 510 | 1 | |a Исследование распределения микротвердости по глубине циркониевого сплава Э110 после облучения импульсным электронным пучком и наводороживания |z rus | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a микротвердость | |
| 610 | 1 | |a циркониевые сплавы | |
| 610 | 1 | |a облучение | |
| 610 | 1 | |a импульсные пучки | |
| 610 | 1 | |a электронные пучки | |
| 610 | 1 | |a наводороживание | |
| 700 | 1 | |a Бабихина |b М. Н. | |
| 702 | 1 | |a Кудияров |b В. Н. |c физик |c инженер Томского политехнического университета |f 1990- |g Виктор Николаевич |2 stltpush |4 727 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Физико-технический институт (ФТИ) |b Кафедра общей физики (ОФ) |h 136 |2 stltpush |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18734 |
| 801 | 1 | |a RU |b 63413507 |c 20101016 | |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20210128 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19200 | |
| 856 | 4 | |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/011.pdf | |
| 942 | |c BK | ||