Studies of the distribution of microhardness by the depth of zirconium alloy E110 after irradiation with pulsed electron beam and hydrogenation; Перспективы развития фундаментальных наук
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 60-62] |
|---|---|
| Autor principal: | |
| Autor Corporativo: | |
| Otros Autores: | |
| Sumario: | Заглавие с экрана Проведено исследование влияния облучения импульсным электронным пучком и последующего наводороживания на распределение микротвердости по поперечному шлифу циркониевого сплава Э110. Показано, что наводороживание приводит к незначительному росту твердости только на небольшой глубине, что говорит о том, что водород не проникает в глубину образцов, а локализуется в тонком поверхностном слое. Такой результат подтверждается исследованием распределения водорода по глубине циркониевого сплава после облучения и наводороживания. |
| Lenguaje: | inglés |
| Publicado: |
2015
|
| Colección: | Физика |
| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19200 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/011.pdf |
| Formato: | Electrónico Capítulo de libro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=612924 |
| Descripción Física: | 1 файл(209 Кб) |
|---|---|
| Sumario: | Заглавие с экрана Проведено исследование влияния облучения импульсным электронным пучком и последующего наводороживания на распределение микротвердости по поперечному шлифу циркониевого сплава Э110. Показано, что наводороживание приводит к незначительному росту твердости только на небольшой глубине, что говорит о том, что водород не проникает в глубину образцов, а локализуется в тонком поверхностном слое. Такой результат подтверждается исследованием распределения водорода по глубине циркониевого сплава после облучения и наводороживания. |