Исследование полупроводниковых пленок CU2S методами атомно-силовой микроскопии

Исследование полупроводниковых пленок CU2S методами атомно-силовой микроскопии

Dettagli Bibliografici
Parent link:	Современное материаловедение: материалы и технологии новых поколений.— 2014.— [С. 199-201]
Autore principale:	Дронова М. В.
Ente Autore:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Altri autori:	Ан В. В. Владимир Вилорьевич
Riassunto:	Заглавие с титульного экрана
Lingua:	russo
Pubblicazione:	2014
Serie:	Перспективные материалы и технологии в машиностроении
Soggetti:	труды учёных ТПУ электронный ресурс полупроводниковые пленки атомно-силовые микроскопы сульфид меди электрическая проводимость магнетронное распыление
Accesso online:	http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2014/C39/047.pdf
Natura:	Elettronico Capitolo di libro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=607394

Documenti analoghi

Исследование полупроводниковых пленок Cu2S методами атомно-силовой микроскопии
di: Дронова М. В.
Pubblicazione: (2014)

Свойства тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного распыления
di: Ан В. В. Владимир Вилорьевич
Pubblicazione: (2016)

Анализ морфологии поверхности и оптических свойств пленок сульфида олова, полученных DC-магнетронным распылением
di: Дронова М. В.
Pubblicazione: (2015)

Метод оценки толщины ультратонких плёнок
di: Стогний А. И.
Pubblicazione: (2003)

Исследование топологии поверхности методом сканирующей атомно-силовой микроскопии: лабораторный практикум учебное пособие для вузов
di: Елманов Г. Н.
Pubblicazione: (Москва, НИЯУ МИФИ, 2011)

Осаждение плёнок оксида меди при магнетронном распылении в металлическом режиме
di: Воронина Е. Д. Екатерина Дмитриевна
Pubblicazione: (2022)

Электропроводность тонких плёнок оксида титана, полученных методом среднечастотного магнетронного распыления
di: Морозова Н. С. Наталья Сергеевна
Pubblicazione: (2009)

Основы сканирующей зондовой микроскопии учебное пособие
di: Миронов В. Л.
Pubblicazione: (Москва, Техносфера, 2004)

К температурной зависимости электрической прочности пленок сульфида цинка
Pubblicazione: (1996)

Оптические свойства пленок ITO
di: Петрюк А. Е.
Pubblicazione: (2018)

Влияние процесса распыления на структуру ВЧ-магнетронных тонких пленок
di: Шаронова А. А. Анна Александровна
Pubblicazione: (2013)

Потенциал использования тонкопленочного гетероперехода SnS/ZnO, полученного методом магнетронного распыления
di: Ан В. В. Владимир Вилорьевич
Pubblicazione: (2016)

Исследования тонких пленок Cu2S, предназначенных для получения P-Cu2S/N-ZnO гетеропереходов фотовольтаического назначения
di: Шлома Ю. П.
Pubblicazione: (2014)

Деградация тонких плёнок Ti при знакопеременном изгибе
di: Цао Янь
Pubblicazione: (2007)

Свойства пленок оксида танатала, полученных ВЧ магнетронным напылением
di: Петрова Ю. С.
Pubblicazione: (2009)

Optical and AFM studies on p-SNS thin films deposited by magnetron sputtering
di: An V. V. Vladimir Vilorievich
Pubblicazione: (2015)

Физико-механические свойства тонких плёнок оксида титана, полученных методом магнетронного распыления
di: Морозова Н. С. Наталья Сергеевна
Pubblicazione: (2009)

Оптические свойства пленок азотосодержащего оксида титана, осажденных магнетронным распылением
di: Сунь Чжилэй
Pubblicazione: (2019)

The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films
di: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Pubblicazione: (2014)

Исследование пленок азотосодержащего оксида титана осажденных магнетронным распылением
di: Сунь Чжилэй
Pubblicazione: (2020)

Физико-механические характеристики PLLA пленок, модифицированных методом ВЧ-магнетронного распыления
di: Богомолова Н. Н. Наталья Николаевна
Pubblicazione: (2014)

Влияние ИМПА магнетронного диода свойства никелевых пленок
di: Целовальникова А. Е.
Pubblicazione: (2019)

Структура пленок, напыляемых в магнитном поле путем магнетронного распыления
di: Загузин И. Ю.
Pubblicazione: (2018)

Применение состава остаточных газов в вакуумной камере в процессе осаждения плёнки Ti
di: Перекрестов В. И.
Pubblicazione: (2002)

The effect of Si content on structure and mechanical features of silicon-containing calcium phosphorus-based films deposited by rf-magnetron sputtering on titanium substrate treated by pulsed electron beam
Pubblicazione: (2014)

Thin Ni-YSZ films fabricated by magnetron co-sputtering used as anodes for solid oxide fuel cells
Pubblicazione: (2012)

The Feasibility of Usage TiN and CrN Barrier Sublayers for Improving the Adhesion of Polycrystalline Diamond Films on WC-Co Hard Alloys
di: Linnik S. A. Stepan Andreevich
Pubblicazione: (2016)

Линейные измерения микрометрового и нанометрового диапазонов в микроэлектронике и нанотехнологии
Pubblicazione: (Москва, Наука, 2006)

Атомно-абсорбционная спектрометрия. Практикум
di: Мартынов Л. Ю.
Pubblicazione: (Москва, РТУ МИРЭА, 2023)

RF magnetron sputtering of a hydroxyapatite target: A comparison study on polytetrafluorethylene and titanium substrates
Pubblicazione: (2017)

Metrology, standardization and certification: laboratory practical course
di: Shevchenko I. M.
Pubblicazione: (Ставрополь, СКФУ, 2023)

Bias-assisted magnetron sputtering of yttria-stabilised zirconia thin films
Pubblicazione: (2014)

Structural features of N-containing titanium dioxide thin films deposited by magnetron sputtering
Pubblicazione: (2017)

Осаждение антифрикционных покрытий в плазме магнетронного разряда
Pubblicazione: (2016)

Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate
Pubblicazione: (2016)

Выращивание кристаллов: выращивание кристаллических пленок методом магнетронного напыления лабораторный практикум
di: Пархоменко Ю. Н.
Pubblicazione: (Москва, МИСИС, 2017)

Исследование фазового состава тонких пленок диоксида титана, полученных среднечастотным дуальным магнетронным распылением
di: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Pubblicazione: (2012)

Смачиваемость поверхности тонких пленок на основе силикатсодержащего гидроксиапатита, полученных методом ВЧ-магнетронного распыления
Pubblicazione: (2013)

The oxygen-deficient TiO2 films deposited by a dual magnetron sputtering
Pubblicazione: (2016)

Novel entropy–stabilized ultra high temperature ceramics thin films prepared by magnetron sputtering
Pubblicazione: (2018)