Влияние процесса распыления на структуру ВЧ-магнетронных тонких пленок; Перспективы развития фундаментальных наук

Влияние процесса распыления на структуру ВЧ-магнетронных тонких пленок; Перспективы развития фундаментальных наук

Detalhes bibliográficos
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук.— 2013.— [С. 1020-1022]
Autor principal:	Шаронова А. А. Анна Александровна
Autor Corporativo:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ)
Outros Autores:	Иванова А. А. Анна Александровна (научный руководитель), Сурменева М. А. Мария Александровна, Сурменев Р. А. Роман Анатольевич
Resumo:	Заглавие с экрана Argentum-containing hydroxyapatite (Ag-HA) coatings with amorphous and crystalline structure have been deposited on the materials of medical implants by method of RF-magnetron sputtering. Phase composition and structure of the Ag-HA coatings have been investigated with respect of position specimens on the substrate holder with the help of X-ray diffraction analysis and SEM method.
Idioma:	russo
Publicado em:	2013
Colecção:	У.М.Н.И.К.
Assuntos:	электронный ресурс труды учёных ТПУ тонкие пленки распыление распыление магнетронное ВЧ-распыление магнетроны структура
Acesso em linha:	http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/348.pdf
Formato:	Recurso Electrónico Capítulo de Livro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=604011

Internet

http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/348.pdf