Application of magnetron sputtering for NiO/YSz anode layer of solid oxide fuel cell formation

Bibliografski detalji
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of fundamental sciences development: сборник научных трудов X Международной конференция студентов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2013 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; ред. коллегия Е. А. Вайтулевич ; Г. А. Лямина ; Г. А. Воронова ; М. Е. Семенов ; А. В. Устинов ; Н. С. Пушилина. [С. 212-214].— , 2013
Glavni autor: Tcybenko A. O. Alena Olegovna
Autor kompanije: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ)
Daljnji autori: Ionov I. V. Igor Vyacheslavovich (727), Kovalchuk A. N. Anastasia Nikolaevna (695), Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Budkova S. S.
Sažetak:Заглавие с экрана
В данной работе исследуются режимы магнетронного напыления NiO/YSZ анодного слоя твердооксидного топливного элемента. Представлены параметры всех режимов осаждения данного покрытия, из которых был выявлен самый оптимальный.
Jezik:engleski
Izdano: 2013
Serija:Физика
Teme:
Online pristup:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/069.pdf
Format: Elektronički Poglavlje knjige
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603645

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 603645
005 20260204111129.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\conf\841 
035 |a RU\TPU\conf\824 
090 |a 603645 
100 |a 20140130d2013 k y0rusy50 ba 
101 0 |a eng 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Application of magnetron sputtering for NiO/YSz anode layer of solid oxide fuel cell formation  |d Применение метода магнетронного распыления для формирования NiО/YSz анодного слоя твердооксидного топливного элемента  |f A. O. Tcybenko, I. V. Ionov, A. N. Kovalchuk  |g sci. adv. A. A. Soloviev, S. S. Budkova 
203 |a Текст  |c электронный 
215 |a 1 файл(381 Кб) 
225 1 |a Физика 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 214 (5 назв.)] 
330 |a В данной работе исследуются режимы магнетронного напыления NiO/YSZ анодного слоя твердооксидного топливного элемента. Представлены параметры всех режимов осаждения данного покрытия, из которых был выявлен самый оптимальный. 
337 |a Adobe Reader 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\715  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of fundamental sciences development  |o сборник научных трудов X Международной конференция студентов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2013 г.  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; ред. коллегия Е. А. Вайтулевич ; Г. А. Лямина ; Г. А. Воронова ; М. Е. Семенов ; А. В. Устинов ; Н. С. Пушилина  |v [С. 212-214]  |d 2013 
510 1 |a Применение метода магнетронного распыления для формирования NiО/YSz анодного слоя твердооксидного топливного элемента  |z rus 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a магнетронное распыление 
610 1 |a анодный сплав 
610 1 |a твердооксидные элементы 
610 1 |a топливные элементы 
700 1 |a Tcybenko  |b A. O.  |c specialist in the field of hydrogen energy  |c Techniques of Tomsk Polytechnic University  |f 1992-  |g Alena Olegovna  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30862 
701 1 |a Ionov  |b I. V.  |c specialist in the field of hydrogen energy  |c Engineer of Tomsk Polytechnic University  |f 1988-  |g Igor Vyacheslavovich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\35575 
701 1 |a Kovalchuk  |b A. N.  |c specialist in the field of hydrogen energy  |c Technician of Tomsk Polytechnic University  |f 1988-  |g Anastasia Nikolaevna  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31886 
702 1 |a Soloviev  |b A. A.  |c specialist in the field of hydrogen energy  |c Associate Professor of Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences  |f 1977-  |g Andrey Aleksandrovich  |4 727 
702 1 |a Budkova  |b S. S.  |4 695 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Физико-технический институт (ФТИ)  |b Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18735 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20101016 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20230323  |g RCR 
856 4 |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/069.pdf 
942 |c CF