Изучение столкновительного распыления металлов в широком диапазоне начальных энергий падающих ионов; Перспективы развития фундаментальных наук

書誌詳細
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2013.— [С. 174-176]
第一著者: Рябкина К. С.
団体著者: Национальный исследовательский Томский политехнический университет
その他の著者: Степанова О. М. Ольга Михайловна (научный руководитель)
要約:Заглавие с экрана
The present work is devoted to investigation of collisional sputtering of metals under accelerated ions of initial energies from 10-2 to 103 keV. Sputtering yields are calculated by means of Sigmund theory expressions. Dependences of sputtering yield on ion initial energy, atomic number, and sublimation energy of a target material and ion incidence angle are studied. Maximum sputtering yield conditions are defined in the case of Ar+ and Xe+ ions. Sputtering yield is apt to grow for materials with sublimation energy of 1.5-2.4 eV. Materials with high melting temperature have lower sputtering yield. The sputtering yield maximum is observed at an ion incidence angle of 65-75°.
言語:ロシア語
出版事項: 2013
シリーズ:Физика
主題:
オンライン・アクセス:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/055.pdf
フォーマット: 電子媒体 図書の章
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603625

類似資料