Изучение столкновительного распыления металлов в широком диапазоне начальных энергий падающих ионов; Перспективы развития фундаментальных наук

Bibliografske podrobnosti
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2013.— [С. 174-176]
Glavni avtor: Рябкина К. С.
Korporativna značnica: Томский политехнический университет
Drugi avtorji: Степанова О. М. Ольга Михайловна (научный руководитель)
Izvleček:Заглавие с экрана
The present work is devoted to investigation of collisional sputtering of metals under accelerated ions of initial energies from 10-2 to 103 keV. Sputtering yields are calculated by means of Sigmund theory expressions. Dependences of sputtering yield on ion initial energy, atomic number, and sublimation energy of a target material and ion incidence angle are studied. Maximum sputtering yield conditions are defined in the case of Ar+ and Xe+ ions. Sputtering yield is apt to grow for materials with sublimation energy of 1.5-2.4 eV. Materials with high melting temperature have lower sputtering yield. The sputtering yield maximum is observed at an ion incidence angle of 65-75°.
Jezik:ruščina
Izdano: 2013
Serija:Физика
Teme:
Online dostop:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/055.pdf
Format: Elektronski Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603625

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 603625
005 20260715071626.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\conf\821 
035 |a RU\TPU\conf\816 
090 |a 603625 
100 |a 20140129d2013 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Изучение столкновительного распыления металлов в широком диапазоне начальных энергий падающих ионов  |d Study on collisional sputtering of metals in a wide range of initial energies of falling ions  |f К. С. Рябкина  |g науч. рук. О. М. Степанова 
203 |a Текст  |c электронный 
215 |a 1 файл(621 Кб) 
225 1 |a Физика 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 176 (4 назв.)] 
330 |a The present work is devoted to investigation of collisional sputtering of metals under accelerated ions of initial energies from 10-2 to 103 keV. Sputtering yields are calculated by means of Sigmund theory expressions. Dependences of sputtering yield on ion initial energy, atomic number, and sublimation energy of a target material and ion incidence angle are studied. Maximum sputtering yield conditions are defined in the case of Ar+ and Xe+ ions. Sputtering yield is apt to grow for materials with sublimation energy of 1.5-2.4 eV. Materials with high melting temperature have lower sputtering yield. The sputtering yield maximum is observed at an ion incidence angle of 65-75°. 
337 |a Adobe Reader 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\715  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of fundamental sciences development  |o сборник научных трудов X Международной конференция студентов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2013 г.  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; ред. коллегия Е. А. Вайтулевич ; Г. А. Лямина ; Г. А. Воронова ; М. Е. Семенов ; А. В. Устинов ; Н. С. Пушилина  |v [С. 174-176]  |d 2013 
510 1 |a Study on collisional sputtering of metals in a wide range of initial energies of falling ions  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a столкновения 
610 1 |a распыление 
610 1 |a металлы 
610 1 |a начальные условия 
610 1 |a энергия 
610 1 |a падение 
610 1 |a ионы 
700 1 |a Рябкина  |b К. С. 
702 1 |a Степанова  |b О. М.  |c специалист в области атомной энергетики  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1982-  |g Ольга Михайловна  |4 727 
712 0 2 |a Томский политехнический университет  |c 1991-  |7 ca  |8 rus  |9 26305 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20101016 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20230323  |g RCR 
850 |a 63413507 
856 4 |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/055.pdf 
942 |c CF