Радиационные дефекты и их комплексы в облученном ионами оксиде алюминия; Физические и физико-химические основы ионной имплантации

Détails bibliographiques
Parent link:Физические и физико-химические основы ионной имплантации.— 2000.— С. 82-83
Auteur principal: Кабышев А. В. Александр Васильевич
Autres auteurs: Конусов Ф. В. Федор Валерьевич, Лопатин В. В. Владимир Васильевич
Résumé:В фонде НТБ ТПУ отсутствует
Langue:russe
Publié: 2000
Sujets:
Format: Chapitre de livre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=601239

Documents similaires