Радиационное дефектообразование в кристаллах MgO при облучении ионными пучками различных элементов

Detalles Bibliográficos
Autor Principal: Анненков Ю. М. Юрий Михайлович
Autor Corporativo: Томский политехнический университет (ТПУ)
Outros autores: Пичугин В. Ф. Владимир Федорович, Франгульян Т. С. Тамара Семёновна
Summary:Деп. в ВИНИТИ 29.04.97, № 1448-В97
Исследована эффективность образования центров окраски в кристаллах MgO при их облучении ускоренными ионами газов (O+, N+, Ar+), металлов (Fe+, Al+) и металлоида (Si+). Показано, что при облучении кристаллов ионами газов, с ростом дозы облучения поглощение при 5,7 эВ превосходит F-поглощение и очень низка эффективность образования Fe+3 и Fc+-центров. При облучении образцов ионами металлов или металлоидов F-поглощение превалирует над коротковолновым поглощением и выше эффективность образования Fe+3 и Fc+-центров. Сравнительный анализ показал, что в случае облучения образцов ионами металлов и металлодов эффективность образования F+-центров существенно выше, чем при облучении ионами газов. Полученные закономерности объясняются различием в химич. свойствах имплантируемых в MgO ионов, которое определяет их различное положение в кристаллич. решетке.
В фонде НТБ ТПУ отсутствует
Idioma:ruso
Publicado: Томск, 1997
Subjects:
Formato: Libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=599785

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 4500
001 599785
005 20231101132056.0
029 0 0 |a RU  |b 1448-В97  |f ВИНИТИ 
035 |a (RuTPU)RU\TPU\tpu\23921 
035 |a RU\TPU\tpu\20769 
090 |a 599785 
100 |a 20131108j19970803k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a y z 000zy 
200 1 |a Радиационное дефектообразование в кристаллах MgO при облучении ионными пучками различных элементов  |f Ю. М. Анненков, В. Ф. Пичугин, Т. С. Франгульян  |g Томский политехнический университет (ТПУ) 
210 |a Томск  |d 1997 
215 |a 10 с.  |c ил. 
300 |a Деп. в ВИНИТИ 29.04.97, № 1448-В97 
320 |a Библиогр.: 15 назв. 
330 |a Исследована эффективность образования центров окраски в кристаллах MgO при их облучении ускоренными ионами газов (O+, N+, Ar+), металлов (Fe+, Al+) и металлоида (Si+). Показано, что при облучении кристаллов ионами газов, с ростом дозы облучения поглощение при 5,7 эВ превосходит F-поглощение и очень низка эффективность образования Fe+3 и Fc+-центров. При облучении образцов ионами металлов или металлоидов F-поглощение превалирует над коротковолновым поглощением и выше эффективность образования Fe+3 и Fc+-центров. Сравнительный анализ показал, что в случае облучения образцов ионами металлов и металлодов эффективность образования F+-центров существенно выше, чем при облучении ионами газов. Полученные закономерности объясняются различием в химич. свойствах имплантируемых в MgO ионов, которое определяет их различное положение в кристаллич. решетке. 
333 |a В фонде НТБ ТПУ отсутствует 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a депонированные рукописи 
700 1 |a Анненков  |b Ю. М.  |c российский физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1940-  |g Юрий Михайлович  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25662 
701 1 |a Пичугин  |b В. Ф.  |c российский физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1944-  |g Владимир Федорович  |x TPU  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25824 
701 1 |a Франгульян  |b Т. С.  |c росиийскиё учёный в области электроники, диэлектриков и полупроводников  |c ведущий научный сотрудник Томского политехнического университета  |g Тамара Семёновна  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26534 
712 0 2 |a Томский политехнический университет (ТПУ)  |c (1991-2009)  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\376 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20120220 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20131108  |g RCR 
942 |c BK