Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц

Бібліографічні деталі
Співавтор:	Томский политехнический университет (ТПУ) Научно-исследовательский институт ядерной физики (НИИ ЯФ)
Інші автори:	Рябчиков А. И. Александр Ильич, Рябчиков И. А., Степанов И. Б., Еремин С. Е., Сивин Д. О.
Резюме:	опубл. 10.08.09 Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции. Устройство содержит корпус, установленную в нем жалюзийную систему вложенных коаксиальных электродов, перекрывающих апертуру вакуумно-дугового испарителя. Электроды соединены между собой последовательно и встречно и подключены к источнику тока и к положит. выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду вакуумно-дугового испарителя. Электроды выполнены в виде изогнутых и соединенных по всей длине полых трубок, подключенных к системе подачи охлаждающего агента. За жалюзийной системой электродов установлена, по меньшей мере, одна электромагн. катушка. Электроды жалюзийной системы выполнены в форме поверхности второго порядка. Корпус снабжен рубашкой охлаждения. Перед жалюзийной системой электродов соосно с ней расположен рассекающий элемент, установленный на охлаждаемом полом держателе, закрепленном на корпусе и перекрывающем зазоры, образованные изгибами трубок. Рассекающий элемент соединен с рубашкой охлаждения корпуса, выполнен в виде полусферы или усеченного конуса и содержит источник магн. поля. Технич. результат: повышение производительности, уменьшение эксплуатационных расходов и уменьшение габаритов установки. В фонде НТБ ТПУ отсутствует
Мова:	Російська
Опубліковано:
Предмети:	патенты труды учёных ТПУ
Формат:	Книга
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=599711