Изучение тонких пленок Cuo и Cu2O методом позитронной аннигиляции; Кристаллография; Т. 21, вып. 5
| Parent link: | Кристаллография: научно-технический журнал/ Российская Академия наук.— , 1956- Т. 21, вып. 5.— 1976.— С. 1061-1062 |
|---|---|
| Hlavní autor: | |
| Další autoři: | |
| Jazyk: | ruština |
| Vydáno: |
1976
|
| Témata: | |
| Médium: | xMaterials Kapitola |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=598313 |