Устройство и способ очистки металлических поверхностей от радиоактивных загрязнений

מידע ביבליוגרפי
מחבר תאגידי: Томский политехнический университет (ТПУ) Научно-исследовательский институт высоких напряжений (НИИВН)
מחברים אחרים: Диденко А. Н. Андрей Николаевич, Дульзон А. А. Альфред Андреевич, Курец В. И. Валерий Исаакович, Таракановский Э. Н., Юшков Ю. Г. Юрий Георгиевич
סיכום:опубл. 20.06.2001
Изобретение относится к области дезактивации, например элементов атомных реакторов. Предложена пятизвенная формула изобретения. Заявлено устройство очистки металлических поверхностей от радиоактивных загрязнений, содержащее заполненную жидкостью емкость для размещения очищаемого объекта и источник импульсного воздействия, отличающееся тем, что оно снабжено электродной системой, соединенной с источником импульсов высокого напряжения, причем электродная система снабжена амортизатором, а электроды имеют сменные наконечники. Помимо этого имеется узел для сканирования электродной системы над очищаемой поверхностью, и сама система снабжена механизмом, обеспечивающим постоянный промежуток между сменным наконечником и очищаемой поверхностью. Кроме того, оговорены характеристики импульсного воздействия (энергия единичного импульса и длина разрядного промежутка). В качестве жидкости используют водную или иную суспензию.
В фонде НТБ ТПУ отсутствует
שפה:רוסית
יצא לאור:
נושאים:
פורמט: ספר
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=598202
תיאור
סיכום:опубл. 20.06.2001
Изобретение относится к области дезактивации, например элементов атомных реакторов. Предложена пятизвенная формула изобретения. Заявлено устройство очистки металлических поверхностей от радиоактивных загрязнений, содержащее заполненную жидкостью емкость для размещения очищаемого объекта и источник импульсного воздействия, отличающееся тем, что оно снабжено электродной системой, соединенной с источником импульсов высокого напряжения, причем электродная система снабжена амортизатором, а электроды имеют сменные наконечники. Помимо этого имеется узел для сканирования электродной системы над очищаемой поверхностью, и сама система снабжена механизмом, обеспечивающим постоянный промежуток между сменным наконечником и очищаемой поверхностью. Кроме того, оговорены характеристики импульсного воздействия (энергия единичного импульса и длина разрядного промежутка). В качестве жидкости используют водную или иную суспензию.
В фонде НТБ ТПУ отсутствует