Влияние местоположения барьерного слоя на электрическую прочность трехслойных систем изоляции

Détails bibliographiques
Parent link:	Российская научно-техническая конференция по физике диэлектриков с международным участием "Диэлектрики-93": тезисы докладов, Санкт-Петербург, 22-24 июня 1993 г. Ч. 2.— 1993.— С. 24-25
Autres auteurs:	Демин А. В., Гефле О. С. Ольга Семеновна, Лебедев С. М. Сергей Михайлович, Ушаков В. Я. Василий Яковлевич
Résumé:	В резко неоднородном эл. поле Uпр ЭИ существенно увеличивается, если расстояние между острийным эл-дом и барьером ≈1/4 межэлектродного расстояния. Для слабо неоднородного поля данные о влиянии барьера на Uпр трехслойных систем изоляции (ТСИ) практически отсутствуют, в то же время этот случай представляет наибольший интерес для барьерной ЭИ кабелей ВН, т. к. коэф. неоднородности внешнего эл. поля для таких конструкций обычно не превышает (1,5÷3). В данной работе показана возможность увеличения Uпр ЭИ (на перем. напряжении промышленной f) путем применения барьеров с повышенной ε в условиях, приближенных к однородному внешнему эл. полю. Исследовано влияние границы раздела материалов с различной ε на Uпр, tg δ и активную и реактивную составляющие проводимости ТСИ. Показано, что макс. эффект увеличения Uпр достигается, если отношение расстояния между потенциальным эл-дом и ближней границей раздела барьер-ЭИ к общей толщине ТСИ находится в пределах (0,25÷0,05), а отношение значений ε материала барьерного слоя и ЭИМ равно 10. При оптимальном расположении барьера tg δ и реактивная проводимость ТСИ на (50÷80)% меньше, чем при других расположениях барьера, а точка перегиба, при к-рой наблюдается нелинейный рост активной проводимости, смещается в область больших значений В фонде НТБ ТПУ отсутствует
Langue:	russe
Publié:	1993
Sujets:	труды учёных ТПУ
Format:	Chapitre de livre
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=598070