Эффективность дефектообразования в стеклообразном [SiO2] при Уф-воздействии; Шестая Всесоюзная конференция по физики диэлектриков

Dettagli Bibliografici
Parent link:	Шестая Всесоюзная конференция по физики диэлектриков.— 1988.— С. 65-66
Autore principale:	Киселев В. Г.
Altri autori:	Овчаров А. Т.
Lingua:	russo
Pubblicazione:	1988
Soggetti:	стеклообразования дефектообразование труды учёных ТПУ
Natura:	Capitolo di libro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=594911

MARC


LEADER	00000naa0a2200000 4500
001	594911
005	20250220162240.0
035			\|a (RuTPU)RU\TPU\tpu\12167
090			\|a 594911
100			\|a 20041102d1988 k y0rusy50 ca
101	0		\|a rus
102			\|a RU
200	1		\|a Эффективность дефектообразования в стеклообразном [SiO2] при Уф-воздействии \|f В. Г. Киселев, А. Т. Овчаров
320			\|a Библиогр.: 3 назв.
463			\|t Шестая Всесоюзная конференция по физики диэлектриков \|o тезисы докладов (Томск, 23-25 ноября, 1988) \|v С. 65-66 \|d 1988
610	1		\|a стеклообразования
610	1		\|a дефектообразование
610	1		\|a труды учёных ТПУ
700		1	\|a Киселев \|b В. Г.
701		1	\|a Овчаров \|b А. Т.
801		1	\|a RU \|b 63413507 \|c 20041102 \|g PSBO
801		2	\|a RU \|b 63413507 \|c 20100414 \|g RCR
942			\|c BK