Киселев В. Г. & Овчаров А. Т. (1988). Эффективность дефектообразования в стеклообразном [SiO2] при Уф-воздействии. 1988.
Cita Chicago (17th ed.)Киселев В. Г. i Овчаров А. Т. Эффективность дефектообразования в стеклообразном [SiO2] при Уф-воздействии. 1988, 1988.
Cita MLA (9th ed.)Киселев В. Г. i Овчаров А. Т. Эффективность дефектообразования в стеклообразном [SiO2] при Уф-воздействии. 1988, 1988.
Atenció: Aquestes cites poden no estar 100% correctes.