Киселев В. Г. & Овчаров А. Т. (1988). Эффективность дефектообразования в стеклообразном [SiO2] при Уф-воздействии. 1988.
Chicago Style (17th ed.) CitationКиселев В. Г. and Овчаров А. Т. Эффективность дефектообразования в стеклообразном [SiO2] при Уф-воздействии. 1988, 1988.
ציטוט MLAКиселев В. Г. and Овчаров А. Т. Эффективность дефектообразования в стеклообразном [SiO2] при Уф-воздействии. 1988, 1988.
אזהרה: ציטוטים אלה לעיתים לא מדויקים ב 100%.