|
|
|
|
| LEADER |
00000naa2a2200000 4500 |
| 001 |
562601 |
| 005 |
20231101123258.0 |
| 035 |
|
|
|a (RuTPU)RU\TPU\prd\257955
|
| 035 |
|
|
|a RU\TPU\prd\257944
|
| 090 |
|
|
|a 562601
|
| 100 |
|
|
|a 20160516a2012 k y0rusy50 ca
|
| 101 |
0 |
|
|a rus
|
| 102 |
|
|
|a RU
|
| 200 |
1 |
|
|a Самостоятельный тлеющий разряд низкого давления с полым катодом при токах в десятки ампер
|f И. В. Лопатин [и др.]
|
| 320 |
|
|
|a Библиогр.: 10 назв.
|
| 330 |
|
|
|a Представлены результаты исследований структурно-фазовых превращений в системе “титановое покрытие - кремниевая подложка”, обработанной низкоэнергетическими сильноточными электронными пучками и компрессионными плазменными потоками длительностью 100 мкс и плотностью энергии 12-15 Дж/см2. В результате исследования методами растровой электронной микроскопии, рентгеноструктурного анализа и рентгеноспектрального микроанализа обнаружено образование легированного титаном слоя кремния толщиной 10-25 мкм, силицидов титана (TiSi2 для воздействия низкоэнергетическими сильноточными электронными пучками, Ti5Si3 при воздействии компрессионными плазменными потоками), дендритов кремния и игольчатой эвтектики (характерный размер выделений 50 нм). Результаты численного моделирования температурных полей показали, что глубина легированного слоя определяется, главным образом, величиной плотности мощности и неоднородностью теплового потока по поверхности мишени. Термодинамические закономерности фазообразования обсуждаются с учетом теплообмена между зародышами силицидов и кремнием.
|
| 461 |
|
0 |
|0 (RuTPU)RU\TPU\prd\408
|x 0367-2921
|t Физика плазмы
|f Российская академия наук (РАН) ; Отделение физических наук РАН
|d 1975-
|
| 463 |
|
0 |
|0 (RuTPU)RU\TPU\prd\147909
|t Т. 38. вып. 7
|v С. 639
|d 2012
|
| 610 |
1 |
|
|a труды учёных ТПУ
|
| 701 |
|
1 |
|a Лопатин
|b И. В.
|
| 701 |
|
1 |
|a Щанин
|b П. М.
|
| 701 |
|
1 |
|a Ахмадеев
|b Ю. Х.
|
| 701 |
|
1 |
|a Ковальский
|b С. С.
|
| 701 |
|
1 |
|a Коваль
|b Н. Н.
|c специалист в области электроники
|c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук
|f 1948-
|g Николай Николаевич
|2 stltpush
|3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31831
|
| 801 |
|
1 |
|a RU
|b 63413507
|c 20110627
|
| 801 |
|
2 |
|a RU
|b 63413507
|c 20160516
|g RCR
|
| 942 |
|
|
|c BK
|
