Самостоятельный тлеющий разряд низкого давления с полым катодом при токах в десятки ампер
| Parent link: | Физика плазмы/ Российская академия наук (РАН) ; Отделение физических наук РАН.— , 1975-.— 0367-2921 Т. 38. вып. 7.— 2012.— С. 639 |
|---|---|
| Outros autores: | , , , , |
| Summary: | Представлены результаты исследований структурно-фазовых превращений в системе “титановое покрытие - кремниевая подложка”, обработанной низкоэнергетическими сильноточными электронными пучками и компрессионными плазменными потоками длительностью 100 мкс и плотностью энергии 12-15 Дж/см2. В результате исследования методами растровой электронной микроскопии, рентгеноструктурного анализа и рентгеноспектрального микроанализа обнаружено образование легированного титаном слоя кремния толщиной 10-25 мкм, силицидов титана (TiSi2 для воздействия низкоэнергетическими сильноточными электронными пучками, Ti5Si3 при воздействии компрессионными плазменными потоками), дендритов кремния и игольчатой эвтектики (характерный размер выделений 50 нм). Результаты численного моделирования температурных полей показали, что глубина легированного слоя определяется, главным образом, величиной плотности мощности и неоднородностью теплового потока по поверхности мишени. Термодинамические закономерности фазообразования обсуждаются с учетом теплообмена между зародышами силицидов и кремнием. |
| Publicado: |
2012
|
| Subjects: | |
| Formato: | Capítulo de libro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=562601 |
| Summary: | Представлены результаты исследований структурно-фазовых превращений в системе “титановое покрытие - кремниевая подложка”, обработанной низкоэнергетическими сильноточными электронными пучками и компрессионными плазменными потоками длительностью 100 мкс и плотностью энергии 12-15 Дж/см2. В результате исследования методами растровой электронной микроскопии, рентгеноструктурного анализа и рентгеноспектрального микроанализа обнаружено образование легированного титаном слоя кремния толщиной 10-25 мкм, силицидов титана (TiSi2 для воздействия низкоэнергетическими сильноточными электронными пучками, Ti5Si3 при воздействии компрессионными плазменными потоками), дендритов кремния и игольчатой эвтектики (характерный размер выделений 50 нм). Результаты численного моделирования температурных полей показали, что глубина легированного слоя определяется, главным образом, величиной плотности мощности и неоднородностью теплового потока по поверхности мишени. Термодинамические закономерности фазообразования обсуждаются с учетом теплообмена между зародышами силицидов и кремнием. |
|---|