Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (оборудование и методы исследования); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)

מידע ביבליוגרפי
Parent link:Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958-
Т. 54, № 11/2 (приложение).— 2011.— C. 128-130
מחברים אחרים: Рябчиков А. И. Александр Ильич, Сивин Д. О. Денис Олегович, Степанов И. Б. Игорь Борисович, Ананьин П. С. Петр Семенович, Дектярев С. В. Сергей Валентинович, Шулепов И. А. Иван Анисимович
סיכום:Подробно описаны элементы эксперим. установки и методики эксперимента для исследования влияния короткоимпульсного ВЧ-потенциала смещения отрицат. полярности на поведение микрокапель вакуумно-дугового разряда вблизи и на потенциальной поверхности мишени, погруженной в плазму
שפה:רוסית
יצא לאור: 2011
נושאים:
פורמט: Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506113

פריטים דומים