Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (оборудование и методы исследования); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)
| Parent link: | Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958- Т. 54, № 11/2 (приложение).— 2011.— C. 128-130 |
|---|---|
| Outros Autores: | , , , , , |
| Resumo: | Подробно описаны элементы эксперим. установки и методики эксперимента для исследования влияния короткоимпульсного ВЧ-потенциала смещения отрицат. полярности на поведение микрокапель вакуумно-дугового разряда вблизи и на потенциальной поверхности мишени, погруженной в плазму |
| Idioma: | russo |
| Publicado em: |
2011
|
| Assuntos: | |
| Formato: | Capítulo de Livro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506113 |