Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (оборудование и методы исследования); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение) - Рябчиков А. И. Александр Ильич; Сивин Д. О. Денис Олегович; Степанов И. Б. Игорь Борисович; Ананьин П. С. Петр Семенович; Дектярев С. В. Сергей Валентинович; Шулепов И. А. Иван Анисимович (2011, 2011)
Подробно описаны элементы эксперим. установки и методики эксперимента для исследования влияния короткоимпульсного ВЧ-потенциала смещения отрицат. полярности на поведение микрокапель вакуумно-дугового разряда вблизи и на потенциальной поверхности мишени, погруженной в плазму