Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (оборудование и методы исследования); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)

Bibliographic Details
Parent link:	Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958- Т. 54, № 11/2 (приложение).— 2011.— C. 128-130
Other Authors:	Рябчиков А. И. Александр Ильич, Сивин Д. О. Денис Олегович, Степанов И. Б. Игорь Борисович, Ананьин П. С. Петр Семенович, Дектярев С. В. Сергей Валентинович, Шулепов И. А. Иван Анисимович
Summary:	Подробно описаны элементы эксперим. установки и методики эксперимента для исследования влияния короткоимпульсного ВЧ-потенциала смещения отрицат. полярности на поведение микрокапель вакуумно-дугового разряда вблизи и на потенциальной поверхности мишени, погруженной в плазму
Language:	Russian
Published:	2011
Subjects:	труды учёных ТПУ
Format:	Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506113

Description
Summary:	Подробно описаны элементы эксперим. установки и методики эксперимента для исследования влияния короткоимпульсного ВЧ-потенциала смещения отрицат. полярности на поведение микрокапель вакуумно-дугового разряда вблизи и на потенциальной поверхности мишени, погруженной в плазму

Similar Items