Поведение имплантированного водорода в бериллии

Поведение имплантированного водорода в бериллии

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Parent link:Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования/ Российская академия наук (РАН) ; Отделение физических наук РАН.— , 1996-
№ 1.— 1996.— С. 24-28
Άλλοι συγγραφείς: Чернов И. П. Иван Петрович, Черданцев Ю. П. Юрий Петрович, Абдрашитов В. Г., Мирончик В. Г., Фефелов П. А.
Περίληψη:На стенде-имитаторе воздействия высокотемпературной плазмы и продуктов термоядерного синтеза на материалы ТЯР исследовано поведение имплантированного водорода в берилии. Для измерения распределения водорода использован ядерно-физич. метод ядер отдачи. Энергия имплантированного водорода составляет 10 кэВ, т-ра образцов во время внедрения 25 и 400 °С, максимальная имплантированная доза ~1018 см-2. Путем сравнения измеренных распределений с результатами компьютерного моделирования показано, что диффузия водорода непосредственно связана с движением дефектов во время внедрения водорода.
Γλώσσα:Ρωσικά
Έκδοση: 1996
Θέματα:
труды учёных ТПУ
Μορφή: Κεφάλαιο βιβλίου
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=494293

Παρόμοια τεκμήρια

Παρόμοια τεκμήρια