Поведение имплантированного водорода в бериллии; Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования; № 1 - Чернов И. П. Иван Петрович; Черданцев Ю. П. Юрий Петрович; Абдрашитов В. Г.; Мирончик В. Г.; Фефелов П. А. (1996, 1996)
На стенде-имитаторе воздействия высокотемпературной плазмы и продуктов термоядерного синтеза на материалы ТЯР исследовано поведение имплантированного водорода в берилии. Для измерения распределения водорода использован ядерно-физич. метод ядер отдачи. Энергия имплантированного водорода составляет 10 кэВ, т-ра образцов во время внедрения 25 и 400 °С, максимальная имплантированная доза ~1018 см-2. Путем сравнения измеренных распределений с результатами компьютерного моделирования показано, что диффузия водорода непосредственно связана с движением дефектов во время внедрения водорода.