Влияние различных видов отжига на свойства ионно-легированных слоев и термическую стабильность полуизолирующего GaAs

Bibliographische Detailangaben
Parent link:Физика и химия обработки материалов/ Российская академия наук (РАН), Институт металлургии и материаловедения им. А. А. Байкова (ИМЕТ).— , 1968-
№ 3.— 1998.— С. 91-95
1. Verfasser: Ардышев В. М.
Weitere Verfasser: Пешев В. В., Суржиков А. П. Анатолий Петрович
Zusammenfassung:Методами измерения уд. электросопротивления, вольт-фарадных характеристик и нестационарной спектроскопии глубоких уровней изучено влияние типа постимплантационного отжига на характеристики имплантированных кремнием слоев полуизолирующего GaAs. Показано, что "радиационный" отжиг пучками электронов с энергией E=1-2 МэВ (T=630°C) обеспечивает высокую степень активации имплантированного кремния, стабильность сопротивления, воспроизводимость концентрационных профилей и наименьшую конц-ию глубоких уровней дефектов
Veröffentlicht: 1998
Schlagworte:
Format: Buchkapitel
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=493836

Ähnliche Einträge