Устойчивость и разрушение дефектных механических наноструктур: монография

Detalhes bibliográficos
Autor principal: Бычков А. А. Андрей Александрович
Resumo:В книге рассматриваются вопросы релаксации полупроводниковой пленки за счет энергии деформации. Учитывается одновременно изменение упругой энергии несоответствия, как за счет дислокационной перестройки, так и за счет механизма неоднородного распределения состава компонент пленки. Сформулированы системы уравнений описывающих процессы релаксации. Построены компьютерные модели пленки SiGe нанометровой толщины на Si подложке и SiGe островков наномстровых размеров на смачивающем слое, учитывающие влияние механодиффузии, наличие дислокаций несоответствия, туннельных трещин, проникающих и винтовых дислокаций. Выполнены расчеты построенных моделей с использованием метода конечных элементов, аппроксимирующих формул и итерационного алгоритма. Особое внимание уделено подробному обсуждению полученных результатов и соответствующим выводам. Представленные результаты помогают определить оптимальные режимы выращивания наноразмерных эпитаксиальных гетероструктур. онография подготовлена в Южном федеральном университете.
Idioma:russo
Publicado em: Москва, Русайнс, 2022
Assuntos:
Formato: Livro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=375249

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 4500
001 375249
005 20231102012722.0
010 |a 9785436596303 
035 |a (RuTPU)RU\TPU\retro\32688 
035 |a RU\TPU\book\380327 
090 |a 375249 
100 |a 20221220d2022 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a a z 001zy 
200 1 |a Устойчивость и разрушение дефектных механических наноструктур  |e монография  |f А. А. Бычков 
210 |a Москва  |c Русайнс  |d 2022 
215 |a 98 с.  |c ил. 
320 |a Библиогр.: с. 92-98 
330 |a В книге рассматриваются вопросы релаксации полупроводниковой пленки за счет энергии деформации. Учитывается одновременно изменение упругой энергии несоответствия, как за счет дислокационной перестройки, так и за счет механизма неоднородного распределения состава компонент пленки. Сформулированы системы уравнений описывающих процессы релаксации. Построены компьютерные модели пленки SiGe нанометровой толщины на Si подложке и SiGe островков наномстровых размеров на смачивающем слое, учитывающие влияние механодиффузии, наличие дислокаций несоответствия, туннельных трещин, проникающих и винтовых дислокаций. Выполнены расчеты построенных моделей с использованием метода конечных элементов, аппроксимирующих формул и итерационного алгоритма. Особое внимание уделено подробному обсуждению полученных результатов и соответствующим выводам. Представленные результаты помогают определить оптимальные режимы выращивания наноразмерных эпитаксиальных гетероструктур. онография подготовлена в Южном федеральном университете. 
606 1 |a Полупроводниковые пленки  |x Физико-химические свойства  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\50667  |9 69318 
610 1 |a напряжения 
610 1 |a релаксация 
610 1 |a моделирование 
610 1 |a равновесное состояние 
610 1 |a дефекты 
610 1 |a влияние 
610 1 |a островки Странского-Крастанова 
610 1 |a сплавы 
610 1 |a компоненты 
610 1 |a равновесное распределение 
610 1 |a расчет 
610 1 |a равновесные поверхности 
610 1 |a монографии 
675 |a 539.216.2  |v 4 
700 1 |a Бычков  |b А. А.  |g Андрей Александрович 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20221220 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20230307  |g RCR 
942 |c BK 
959 |a 26/20221220  |d 1  |e 746,00  |f ЧЗТЛ:1