|
|
|
|
| LEADER |
00000nam0a2200000 4500 |
| 001 |
373337 |
| 005 |
20231102012545.0 |
| 010 |
|
|
|a 9785948363691
|
| 035 |
|
|
|a (RuTPU)RU\TPU\retro\30765
|
| 035 |
|
|
|a RU\TPU\book\270094
|
| 090 |
|
|
|a 373337
|
| 100 |
|
|
|a 20221216d2014 km y0rusy50 ca
|
| 101 |
0 |
|
|a rus
|
| 102 |
|
|
|a RU
|
| 105 |
|
|
|a a g 001zy
|
| 200 |
1 |
|
|a Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
|f Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман
|
| 210 |
|
|
|a Москва
|c Техносфера
|d 2014
|
| 215 |
|
|
|a 256 с.
|c ил.
|
| 225 |
1 |
|
|a Мир материалов и технологий
|
| 320 |
|
|
|a Библиогр.: с. 242-255.
|
| 330 |
|
|
|a Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава.Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
|
| 606 |
1 |
|
|a Тонкопленочная технология
|2 stltpush
|3 (RuTPU)RU\TPU\subj\60919
|9 78140
|
| 606 |
1 |
|
|a Плазменное напыление
|x Физико-химические процессы
|2 stltpush
|3 (RuTPU)RU\TPU\subj\48962
|9 67777
|
| 610 |
1 |
|
|a реактивное магнетронное распыление
|
| 610 |
1 |
|
|a нестабильность
|
| 610 |
1 |
|
|a реактивный газ
|
| 610 |
1 |
|
|a мишени
|
| 610 |
1 |
|
|a поверхности
|
| 610 |
1 |
|
|a реактивный разряд
|
| 610 |
1 |
|
|a стабилизация
|
| 610 |
1 |
|
|a управление
|
| 610 |
1 |
|
|a электрические параметры
|
| 610 |
1 |
|
|a изменение
|
| 610 |
1 |
|
|a температура
|
| 610 |
1 |
|
|a тонкие пленки
|
| 610 |
1 |
|
|a рост
|
| 610 |
1 |
|
|a состав
|
| 610 |
1 |
|
|a гистерезис
|
| 610 |
1 |
|
|a устранение
|
| 610 |
1 |
|
|a альтернативные способы
|
| 610 |
1 |
|
|a окисные пленки
|
| 610 |
1 |
|
|a реактивное нанесение
|
| 675 |
|
|
|a 621.382.049.772
|v 3
|
| 675 |
|
|
|a 621.793.74
|v 3
|
| 700 |
|
1 |
|a Берлин
|b Е. В.
|g Евгений Владимирович
|
| 701 |
|
1 |
|a Сейдман
|b Л. А.
|g Лев Александрович
|
| 801 |
|
1 |
|a RU
|b 63413507
|c 20140122
|
| 801 |
|
2 |
|a RU
|b 63413507
|c 20221216
|g RCR
|
| 942 |
|
|
|c BK
|
| 959 |
|
|
|a 8/20140122
|d 2
|e 517,00
|f ЧЗТЛ:1
|f АНЛ:1
|
