Легирование эпитаксиальных слоев полупроводников

Бібліографічні деталі
Автор: Харченко В. В. Валерий Владимирович
Співавтор: Академия наук Узбекской ССР
Інші автори: Грейсух М. Р. Моисей Рувимович
Мова:Російська
Опубліковано: Ташкент, Фан, 1979
Предмети:
Формат: Книга
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=368300

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 4500
001 368300
005 20231102012053.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\retro\25663 
090 |a 368300 
100 |a 20220406d1979 km y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a UZ 
105 |a a z 001zy 
200 1 |a Легирование эпитаксиальных слоев полупроводников  |f В. В. Харченко, М. Р. Грейсух  |g Академия наук Узбекской ССР 
210 |a Ташкент  |c Фан  |d 1979 
215 |a 124 с.  |c ил. 
320 |a Библиогр.: с. 115-121 
606 1 |a Полупроводниковые материалы  |x Параметры  |x Измерение  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\50665  |9 69316 
610 1 |a эпитаксиальные слои 
610 1 |a легирование 
610 1 |a примеси 
610 1 |a диффузии 
610 1 |a расчеты 
675 |a 621.315.592  |v 4 
700 1 |a Харченко  |b В. В.  |g Валерий Владимирович 
701 1 |a Грейсух  |b М. Р.  |g Моисей Рувимович 
712 0 2 |a Академия наук Узбекской ССР  |c (Ташкент)  |c (1943-1991)  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\1343  |9 23551 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20220406 
942 |c BK