Технологические комплексы интегрированных процессов производства изделий электроники

Podrobná bibliografie
Korporace: Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники (БГУИР), Национальная Академия наук Беларуси (НАНБ, НАН Беларуси)
Další autoři: Достанко А.П. (редактор)
Shrnutí:Рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области создания и функционирования современных технологических комплексов интегрированных процессов производства изделий электроники, начиная от очистки поверхности подложек ультразвуком, СВЧ-плазмохимической обработки, магнетронного электронно-лучевого и импульсного лазерного формирования структур и состава слоев, высокочастотного локального нагрева, диффузионной сварки, а также интегрированного контроля микро- и наноструктур.Предназначена для инженерно-технических работников предприятий электронной и других отраслей промышленности, специалистов научно-исследовательских институтов, аспирантов, магистрантов и студентов старших курсов технических вузов.Табл. 18. Ил. 196. Библиогр.: 263.
Jazyk:ruština
Vydáno: Минск, Беларуская навука, 2016
Témata:
Médium: Kniha
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=321534

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 4500
001 321534
005 20231102003403.0
010 |a 9789850819932 
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\347089 
090 |a 321534 
100 |a 20160829d2016 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a BY 
105 |a a z 001zy 
200 1 |a Технологические комплексы интегрированных процессов производства изделий электроники  |f Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники (БГУИР) ; Национальная Академия наук Беларуси (НАНБ, НАН Беларуси) ; под ред. А.П. Достанко 
210 |a Минск  |c Беларуская навука  |d 2016 
215 |a 251 с.  |c ил. 
320 |a Библиография в конце глав 
330 |a Рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области создания и функционирования современных технологических комплексов интегрированных процессов производства изделий электроники, начиная от очистки поверхности подложек ультразвуком, СВЧ-плазмохимической обработки, магнетронного электронно-лучевого и импульсного лазерного формирования структур и состава слоев, высокочастотного локального нагрева, диффузионной сварки, а также интегрированного контроля микро- и наноструктур.Предназначена для инженерно-технических работников предприятий электронной и других отраслей промышленности, специалистов научно-исследовательских институтов, аспирантов, магистрантов и студентов старших курсов технических вузов.Табл. 18. Ил. 196. Библиогр.: 263. 
606 1 |a Электронная промышленность  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\20362  |9 45471 
610 1 |a электроника 
610 1 |a электронные издания 
610 1 |a технологические комплексы 
610 1 |a технологические процессы 
610 1 |a интегрированные комплексы 
610 1 |a интегрированные системы 
610 1 |a автоматизированные технологические комплексы 
610 1 |a оптико-электронные изделия 
610 1 |a СВЧ-системы 
610 1 |a вакуумно-плазменная обработка 
610 1 |a микроэлектроника 
610 1 |a магнетронные системы 
610 1 |a контроль 
610 1 |a микроструктуры 
610 1 |a наноструктуры 
610 1 |a пленки 
610 1 |a лазерное осаждение 
610 1 |a кластерный комплекс 
675 |a 621.38.002  |v 4 
702 1 |a Достанко  |b А.П.  |4 340 
712 0 2 |a Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники (БГУИР)  |c (Минск)  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\429 
712 0 2 |a Национальная Академия наук Беларуси (НАНБ, НАН Беларуси)  |c (1997- )  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\3801 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20160829 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20161107  |g RCR 
942 |c BK 
959 |a 61/20160829  |d 1  |e 756,00  |f ЧЗТЛ:1