Нанотехнологии в микроэлектронике. Нанолитография - процессы и оборудование: учебно-справочное руководство

Dades bibliogràfiques
Autor principal: Киреев В. Ю. Валерий Юрьевич
Sumari:В учебно-справочном руководстве проведен анализ возможностей, особенностей, ограничений и областей применения различных литографических и нелитографических методов наноструктурирования для создания топологии ИС с элементами субстонанометрового диапазона. Показаны основные физические и химические механизмы и ограничения, лежащие в основе оптической нанолитографии, нанолитографии на экстремальном ультрафиолете, наноимпринт литографии, электронной нанолитографии и вакуумного газоплазменного травления. Приведено современное производственное оборудование различных видов нанолитографии, его операционные и конструкционно-технологические параметры, технологические и экономические характеристики реализуемых процессов. Руководство для университетов с обучением по специальностям: 210601 "Нанотехнология в электронике", 210104 "Микроэлектроника и твердотельная электроника", 222900 "Нанотехнология и микросистемная техника", 210600 "Нанотехнология", 210100 "Электронное машиностроение", а также для инженеров и научных работников.
Idioma:rus
Publicat: Долгопрудный, Интеллект, 2016
Matèries:
Format: Llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=318111

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 4500
001 318111
005 20231102003038.0
010 |a 9785915592154 
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\343592 
090 |a 318111 
100 |a 20160420d2014 km y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a a gj 001zy 
200 1 |a Нанотехнологии в микроэлектронике. Нанолитография - процессы и оборудование  |e учебно-справочное руководство  |f В. Ю. Киреев 
210 |a Долгопрудный  |c Интеллект  |d 2016 
215 |a 320 с.  |c ил. 
320 |a Библиогр.: с. 314-319 
330 |a В учебно-справочном руководстве проведен анализ возможностей, особенностей, ограничений и областей применения различных литографических и нелитографических методов наноструктурирования для создания топологии ИС с элементами субстонанометрового диапазона. Показаны основные физические и химические механизмы и ограничения, лежащие в основе оптической нанолитографии, нанолитографии на экстремальном ультрафиолете, наноимпринт литографии, электронной нанолитографии и вакуумного газоплазменного травления. Приведено современное производственное оборудование различных видов нанолитографии, его операционные и конструкционно-технологические параметры, технологические и экономические характеристики реализуемых процессов. Руководство для университетов с обучением по специальностям: 210601 "Нанотехнология в электронике", 210104 "Микроэлектроника и твердотельная электроника", 222900 "Нанотехнология и микросистемная техника", 210600 "Нанотехнология", 210100 "Электронное машиностроение", а также для инженеров и научных работников. 
606 1 |a Микроэлектроника  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\43811  |9 63253 
610 1 |a нанотехнологии 
610 1 |a нанолитография 
610 1 |a интегральные схемы 
610 1 |a наноструктуры 
610 1 |a топология 
610 1 |a фотолитография 
610 1 |a развитие 
610 1 |a наноимпринт-литография 
610 1 |a технологические маршруты 
610 1 |a оборудование 
610 1 |a учебно-справочные руководства 
675 |a 621.382.049.77(075.8)(035)  |v 4 
700 1 |a Киреев  |b В. Ю.  |g Валерий Юрьевич 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20160420 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160707  |g RCR 
942 |c BK 
959 |a 32/20160331  |d 1  |e 1200,00  |f ЧЗТЛ:1