Проблемы микроэлектронной технологии

Detalhes bibliográficos
Corporate Authors:	Физико-технологический институт, Академия наук РСФСР
Outros Autores:	Великов Л. В
Idioma:	russo
Publicado em:	Москва, Наука, 1992
Colecção:	Труды ФТИАН Т. 4
Assuntos:	электроника микроэлектронные технологии проблемы литография травление полупроводниковые слои металлические слои сверхпроводящие слои
Formato:	Livro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=31689

MARC


LEADER	00000nam0a2200000 4500
001	31689
005	20231030204547.0
010			\|a 5020068683
035			\|a (RuTPU)RU\TPU\book\31980
035			\|a BOOK00000059
090			\|a 31689
100			\|a 20011210d1992 k y0rusy50 ca
101	0		\|a rus
102			\|a RU
105			\|a 001\|y
200	1		\|a Проблемы микроэлектронной технологии \|f Под ред. Л. В. Великова; ФТИ
210			\|a Москва \|c Наука \|d 1992
215			\|a 100 с.
225	1		\|a Труды ФТИАН \|v Т. 4
320			\|a Библиогр. в конце ст.
610	1		\|a электроника
610	1		\|a микроэлектронные технологии
610	1		\|a проблемы
610	1		\|a литография
610	1		\|a травление
610	1		\|a полупроводниковые слои
610	1		\|a металлические слои
610	1		\|a сверхпроводящие слои
675			\|a 621.382.049.77.002 \|v 3
702		1	\|a Великов \|b Л. В
712	0	2	\|a Физико-технологический институт
712	0	2	\|a Академия наук РСФСР
801		0	\|a RU \|b 63413507 \|c 20011210 \|g PSBO
801		2	\|a RU \|b 63413507 \|c 20170111 \|g RCR
942			\|c BK