Образование кремнийорганических соединений в процессах очистки воды; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]. Инжиниринг георесурсов; Т. 327, № 1
| Parent link: | Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]. Инжиниринг георесурсов/ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2015-.— 2413-1830 Т. 327, № 1.— 2016.— [С. 64-71] |
|---|---|
| Corporate Authors: | , |
| Outros Autores: | , , , |
| Resumo: | Заглавие с титульного листа Исследование проблемы удаления ионов кремния из подземных вод в процессах водоочистки и возможность ионов кремния участвовать в формировании кремнийорганических коллоидных соединений, устойчивых к физико-химическим воздействиям, является актуальной задачей и имеет практическую значимость для разработчиков водоочистных устройств. Цель работы: установить последовательность формирования кремнийорганических коллоидных соединений в процессе водоподготовки. Методы исследования: фотоколориметрия, рН-метрия, титрометрия, оптические методы. Результаты. Исследовано влияние ионов кремния на образование коллоидных кремнийорганических соединений железа, присутствие которых в подземных водах снижает производительность установок водоподготовки. Показано, что ионы кремния взаимодействуют с органическими веществами гумусового происхождения с образованием устойчивых коллоидных соединений. Определено мольное соотношение ионов кремния и гуминовых веществ (критическая концентрация мицеллообразования), при котором образуются коллоидные соединения. Полученное мольное соотношение ионов кремния и гуминовых веществ составляет 7:2 соответственно. Предложена схема образования золя кремнийорганических соединений и определен дзета-потенциал, значение которого составляет -21 мВ. Процесс образования кремнийорганических коллоидных соединений в растворе продемонстрирован экспериментом по смешению двух растворов, содержащих ионы кремния и гумата натрия, с одновременным определением размеров частиц. В процессе образования кремнийорганических коллоидных соединений максимум распределения частиц изменяется в течение 30 минут в интервале от 50 до 70 нм. При этом происходит укрупнение частиц и процентное содержание частиц с размерами от 100 до 100000 нм изменяется от 68 до 80 %. The study of the problem of removal of silicon ions of groundwater in water treatment processes and the ability of silicon ions to participate in the formation of silicon compounds that are resistant to physical and chemical effects is an urgent task, has practical significance for purification technologies developers. The aim of the research is the study of the formation mechanism of colloid organosilicon compounds in the water treatment process. Methods: photocolorimetry, pH measurement, titrometry, optical methods. Results. The authors investigated that the silicon ions have effect on the formation of colloidal organosilicon compounds of iron compounds whose presence in the groundwater reduces the performance of water treatment plants. It is shown that the silicon ions react with the organic substances of the humus origin to form stable colloidal compounds. The authors also defined the molar ratio of silicon ions and humic substances (critical micelle concentration) at which colloidal compounds are formed. The resulting molar ratio of silicon ions and humic substances is 7:2 respectively. We proposed a scheme for the formation of the sol and silicon compounds and defined the zeta potential which is -21 mV. We also demonstrated the formation of organosilicon compounds in the solution by mixing 2 solutions containing silicon ions and sodium humate with simultaneous determination of particle size. The maximum particle distribution changes within 30 minutes in the range of 50 to 70 nm during the formation of the organosilicon colloidal compounds. At the same time there is a coarsening of the particles, the percentage of particles with sizes ranging from 100 to 100,000 nm varies from 68 to 80 %. |
| Idioma: | russo |
| Publicado em: |
2016
|
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | http://earchive.tpu.ru/bitstream/11683/9007/1/bulletin_tpu-2016-v327-i1-07.pdf |
| Formato: | Recurso Electrónico Capítulo de Livro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=313716 |
MARC
| LEADER | 00000nla2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 313716 | ||
| 005 | 20240109145400.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\book\339101 | ||
| 090 | |a 313716 | ||
| 100 | |a 20160201d2016 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drgn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Образование кремнийорганических соединений в процессах очистки воды |f Л. А. Костикова [и др.] | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 215 | |a 1 файл (319 Kb) | ||
| 300 | |a Заглавие с титульного листа | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 69 (21 назв.)] | ||
| 330 | |a Исследование проблемы удаления ионов кремния из подземных вод в процессах водоочистки и возможность ионов кремния участвовать в формировании кремнийорганических коллоидных соединений, устойчивых к физико-химическим воздействиям, является актуальной задачей и имеет практическую значимость для разработчиков водоочистных устройств. Цель работы: установить последовательность формирования кремнийорганических коллоидных соединений в процессе водоподготовки. Методы исследования: фотоколориметрия, рН-метрия, титрометрия, оптические методы. Результаты. Исследовано влияние ионов кремния на образование коллоидных кремнийорганических соединений железа, присутствие которых в подземных водах снижает производительность установок водоподготовки. Показано, что ионы кремния взаимодействуют с органическими веществами гумусового происхождения с образованием устойчивых коллоидных соединений. Определено мольное соотношение ионов кремния и гуминовых веществ (критическая концентрация мицеллообразования), при котором образуются коллоидные соединения. Полученное мольное соотношение ионов кремния и гуминовых веществ составляет 7:2 соответственно. Предложена схема образования золя кремнийорганических соединений и определен дзета-потенциал, значение которого составляет -21 мВ. Процесс образования кремнийорганических коллоидных соединений в растворе продемонстрирован экспериментом по смешению двух растворов, содержащих ионы кремния и гумата натрия, с одновременным определением размеров частиц. В процессе образования кремнийорганических коллоидных соединений максимум распределения частиц изменяется в течение 30 минут в интервале от 50 до 70 нм. При этом происходит укрупнение частиц и процентное содержание частиц с размерами от 100 до 100000 нм изменяется от 68 до 80 %. | ||
| 330 | |a The study of the problem of removal of silicon ions of groundwater in water treatment processes and the ability of silicon ions to participate in the formation of silicon compounds that are resistant to physical and chemical effects is an urgent task, has practical significance for purification technologies developers. The aim of the research is the study of the formation mechanism of colloid organosilicon compounds in the water treatment process. Methods: photocolorimetry, pH measurement, titrometry, optical methods. Results. The authors investigated that the silicon ions have effect on the formation of colloidal organosilicon compounds of iron compounds whose presence in the groundwater reduces the performance of water treatment plants. It is shown that the silicon ions react with the organic substances of the humus origin to form stable colloidal compounds. The authors also defined the molar ratio of silicon ions and humic substances (critical micelle concentration) at which colloidal compounds are formed. The resulting molar ratio of silicon ions and humic substances is 7:2 respectively. We proposed a scheme for the formation of the sol and silicon compounds and defined the zeta potential which is -21 mV. We also demonstrated the formation of organosilicon compounds in the solution by mixing 2 solutions containing silicon ions and sodium humate with simultaneous determination of particle size. The maximum particle distribution changes within 30 minutes in the range of 50 to 70 nm during the formation of the organosilicon colloidal compounds. At the same time there is a coarsening of the particles, the percentage of particles with sizes ranging from 100 to 100,000 nm varies from 68 to 80 %. | ||
| 337 | |a Adobe Reader | ||
| 453 | |t Formation of organosilicon compounds in water purification processes |o translation from Russian |f L. A. Kostikova [et al.] |c Tomsk |n TPU Press |d 2015- |d 2016 | ||
| 453 | |t Bulletin of the Tomsk Polytechnic University. Geo Assets Engineering | ||
| 453 | |t Vol. 327, № 1 | ||
| 461 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\book\312844 |x 2413-1830 |t Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]. Инжиниринг георесурсов |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |d 2015- | |
| 463 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\book\338998 |t Т. 327, № 1 |v [С. 64-71] |d 2016 | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a соединения кремния | |
| 610 | 1 | |a частицы | |
| 610 | 1 | |a размеры | |
| 610 | 1 | |a кремнийорганические вещества | |
| 610 | 1 | |a природные воды | |
| 610 | 1 | |a вода | |
| 610 | 1 | |a очистка | |
| 610 | |a silicon compounds | ||
| 610 | |a particle size | ||
| 610 | |a organosilicon compounds | ||
| 610 | |a natural water | ||
| 610 | |a water purification | ||
| 701 | 1 | |a Костикова |b Л. А. |c химик-технолог |c инженер Томского политехнического университета |f 1974- |g Лариса Анатольевна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36114 | |
| 701 | 1 | |a Шиян |b Л. Н. |c химик |c доцент Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук |f 1952- |g Людмила Николаевна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25655 | |
| 701 | 1 | |a Мачехина |b К. И. |c химик-технолог |c инженер, доцент Томского политехнического университета, кандидат технических наук |f 1987- |g Ксения Игоревна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28100 |9 13058 | |
| 701 | 1 | |a Егоров |b Н. Б. |c химик-технолог |c доцент Томского политехнического университета, кандидат химических наук |f 1974- |g Николай Борисович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\27912 |9 12915 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ) |b Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\21253 |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ) |b Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\21253 |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ) |b Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\21253 |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Физико-технический институт (ФТИ) |b Кафедра химической технологии редких, рассеянных и радиоактивных элементов (№ 43) (ХТРЭ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18733 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20170918 |g PSBO | |
| 856 | 4 | |u http://earchive.tpu.ru/bitstream/11683/9007/1/bulletin_tpu-2016-v327-i1-07.pdf | |
| 942 | |c CF | ||