MARC

LEADER 00000nam0a2200000 4500
001 300841
005 20231101004528.0
020 |a RU  |b 82-68111 
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\325994 
090 |a 300841 
100 |a 20150717d1982 km y0rusy5003 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a a z 001zy 
200 1 |a Импульсный отжиг полупроводниковых материалов  |f А. В. Двуреченский [и др.]  |g Академия наук СССР (АН СССР), Сибирское отделение (СО), Институт физики полупроводников (ИФП) ; под ред. А. В. Ржанова 
210 |a Москва  |c Наука  |d 1982 
215 |a 208 с.  |c ил. 
320 |a Библиогр.: с. 204-206 
606 1 |a Полупроводники  |x Легирование ионное  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\50586 
610 1 |a полупроводниковые материалы 
610 1 |a импульсный отжиг 
610 1 |a наносекундные импульсы 
610 1 |a сканирующие лучи 
610 1 |a радиационные дефекты 
610 1 |a кристаллизация 
610 1 |a примеси 
610 1 |a тепловые поля 
675 |a 621.315.592.002  |z rus  |v 3 
701 1 |a Двуреченский  |b А. В.  |g Анатолий Васильевич 
701 1 |a Качурин  |b Г. А.  |g Григорий Аркадьевич 
701 1 |a Нидаев  |b Е. В.  |g Евгений Васильевич 
701 1 |a Смирнов  |b Л. С.  |g Леонид Степанович 
702 1 |a Ржанов  |b А. В.  |g Анатолий Васильевич  |4 340 
712 0 2 |a Академия наук СССР (АН СССР)  |b Сибирское отделение (СО)  |b Институт физики полупроводников (ИФП)  |c (Новосибирск)  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\11385 
801 0 |a RU  |b RuMRKP  |c 19950704  |g psbo 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20150717 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20180614  |g RCR 
942 |c BK