Mobile ions in metal-oxide-silicon structures; effects of ion implantation and annealing
| Автор: | |
|---|---|
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Shevwood, Geboren te Noord-Scharwoude, 1984
|
| Предмети: | |
| Формат: | Книга |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=283744 |