Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике

Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике

Bibliographic Details
Main Author:	Валиев К. А. Камиль Ахметович
Other Authors:	Раков А. В. Александр Васильевич
Language:	Russian
Published:	Москва, Радио и связь, 1984
Subjects:	Микролитография электронные пучки формирование быстрые электроны взаимодействие с веществом ионно-лучевая литография физика субмикронная фотолитография
Format:	Book
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=282945

Similar Items

Физика субмикронной литографии
by: Валиев К. А. Камиль Ахметович
Published: (Москва, Наука, 1990)

Проблемы субмикронной технологии
Published: (Москва, Наука, 1993)

Ч. 1; Микролитография: принципы, методы, материалы
Published: (1990)

Искусство литографии: практическое руководство для художников
by: Суворов П. И. Петр Иванович
Published: (Москва, Искусство, 1964)

Искусство литографии: практическое руководство для художников
by: Суворов П. И. Петр Иванович
Published: (Москва, Искусство, 1952)

Методы нанолитографии. Достижения и перспективы
Published: (Ростов-на-Дону, Терра-Принт, 2008)

Ч. 2; Микролитография: принципы, методы, материалы
Published: (1990)

Проблемы литографии в микроэлектронике
Published: (Москва, Наука, 1987)

Радиационное накопление заряда в твердых диэлектриках и методы его диагностики
by: Боев С. Г. Сергей Григорьевич
Published: (Москва, Энергоиздат, 1991)

Нанотехнологии в микроэлектронике. Нанолитография - процессы и оборудование: учебно-справочное руководство
by: Киреев В. Ю. Валерий Юрьевич
Published: (Долгопрудный, Интеллект, 2016)

Литография в производстве интегральных микросхем: учебное пособие для профтехобразования
by: Родионов Ю. А. Юрий Анатольевич
Published: (Минск, Дизайн ПРО, 1998)

Моделирование технологических процессов микроэлектроники
Published: (Москва, Наука, 1992)

Физические закономерности взаимодействия сильноточного электронного пучка с веществом: Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук; Спец. 01.04.20
by: Вальчук В. В. Виктор Васильевич
Published: (Томск, 1993)

Modification of stainless steel based on synergistic of low-energy high-intensity ion implantation and high-current electron beam impact on the surface layer; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 2064 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2021)
Published: (2021)

Т. 5 : Ионно-пучковая технология; Физические основы лазерной и пучковой технологии
Published: (1989)

Дозиметрия электронного излучения
by: Баранов В. Ф. Владимир Филиппович
Published: (Москва, Атомиздат, 1974)

Расчет и проектирование устрйств электронной и ионной литографии
by: Попов В. К. Виктор Кузьмич
Published: (Москва, Радио и связь, 1985)

Решение методом Монте-Карло задач переноса быстрых электронов в веществе
by: Аккерман А. Ф. Абрам Фишелевич
Published: (Алма-Ата, Наука, 1972)

Фото-, электроно- и рентгенорезисты
by: Боков Ю. С. Юрий Сергеевич
Published: (Москва, Радио и связь, 1982)

Talbot photolithography optimization with engineered hybrid metal-dielectric mask: High-contrast and highly-uniform Talbot stripes; Optics and Laser Technology; Vol. 148
by: Geynts Yu. E. Yury Elmarovich
Published: (2022)

Монолитная интегральная схема двухпозиционного СВЧ коммутатора на GaAs; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 309, № 8
Published: (2006)

Специальные вопросы технологии приборов оптической электроники учебное пособие для студентов направления «электроника и наноэлектроника»
by: Орликов Л. Н.
Published: (Москва, ТУСУР, 2018)

Электромагнитные каскадные процессы
by: Иваненко И. П. Игорь Павлович
Published: (Москва, Изд-во Московского ун-та, 1972)

Нейтронные измерения
by: Ярицына И. А. Ирина Александровна
Published: (Москва, Изд-во стандартов, 1972)

Разработка и создание программ расчета прохождения электронного пучка конечных размеров в слабопроводящих средах: Итоговый отчет о НИР; Тема: х/д 0-31/77
Published: (Томск, 1979)

Физика электронных и атомных столкновений: сборник научных трудов
Published: (Ленинград, Изд-во ФТИ, 1987)

Радиационная дозиметрия: электронные пучки с энергиями от 1 до 50 МэВ: пер. с англ.; доклад 35 Международной Комиссии по радиационным единицам и измерениям
Published: (Москва, Энергоатомиздат, 1988)

Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами. Курс лекций
by: Юрчук С. Ю.
Published: (Москва, МИСИС, 2013)

Основы конструирования и технологии производства радиоэлектронных средств. Ионно-плазменные технологии: учебник для бакалавриата и магистратуры
Published: (Москва, Юрайт, 2016)

Surface Free Energy of TiNi Alloy after Ion Beam Treatment and its Effect on the Proliferative Activity of Stem Cells; AIP Conference Proceedings; Vol. 2167 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2019 (AMHS'19)
Published: (2019)

Ориентационные эффекты при скользящем взаимодействии быстрых электронов с диэлектрическими поверхностями; Физико-технические проблемы в науке, промышленности и медицине
Published: (2015)

Атомные столкновения в газах и на поверхности твердого тела: [монография]
Published: (Ташкент, Фан, 1988)

Ионно-электронно-плазменная модификация системы "покрытие (TiZrCu)\подложка (Al-(22-24)%Si)"; Современные технологии и материалы новых поколений
Published: (2017)

Разработка, исследование и внедрение радиационного метода дефектоскопии слоистых материалов быстрыми электронами: Отчет о НИР; Тема : х/д № 166/67; №7/69
Published: (Томск, 1969)

Применение малогабаритных бетатронов с выведенным электронным пучком для терапии; Качество - стратегия XXI века
by: Чахлов В. Л. Владимир Лукьянович
Published: (2009)

Разработка и исследование бетатрона с выводом пучка для радиационного контроля материалов и изделий быстрыми электронами: Диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук
by: Савельев Б. Ф.
Published: (Томск, 1971)

Некоторые вопросы теории рассеяния быстрых частиц в веществе и во внешних полях
by: Шульга Н. Ф. Николай Федорович
Published: (Киев, Наукова думка, 2010)

Ориентационные эффекты рассеяния быстрых электронов в щелочногалоидных монокристаллах: Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук
by: Бабудаев А. Я.
Published: (Томск, 1973)

Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур: математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами курс лекций
by: Юрчук С. Ю.
Published: (Москва, МИСИС, 2013)

Отрицательные мюоны в веществе
by: Евсеев В. С.
Published: (Москва, Энергоатомиздат, 1985)