К расчету напряжения на инфлекторе бетатрона

Xehetasun bibliografikoak
Parent link:Известия Томского политехнического института [Известия ТПИ]/ Томский политехнический институт (ТПИ).— , 1944-1976
Т. 279 : Бетатроны.— 1974.— [С. 47-55]
Egile nagusia: Окулов Б. В.
Gaia:Заглавие с титульного листа
Электронная версия печатной публикации
Получены общие выражения для расчета величин необходимого напряжения на плоском инфлекторе, на цилиндрическом инфлекторе и на цилиндрическом инфлекторе обратной кривизны. При этом учтен потенциал пространства между пластинами инфлектора. Показано, что отношение необходимого напряжения на инжекторе не зависит ни от величины магнитного поля в момент инжекции, ни от скорости инжектируемых электронов. Это позволяет упростить схему питания высоковольтного инжекторного устройства.
Hizkuntza:errusiera
Argitaratua: 1974
Gaiak:
Sarrera elektronikoa:Черно-белая версия для предварительного просмотра
Цветная версия без потери качества
Formatua: Baliabide elektronikoa Liburu kapitulua
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=238010

MARC

LEADER 00000nla2a2200000 4500
001 238010
005 20231031205022.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\259191 
035 |a RU\TPU\book\259189 
090 |a 238010 
100 |a 20130521d1974 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drnn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a К расчету напряжения на инфлекторе бетатрона  |b Электронный ресурс  |f Б. В. Окулов 
203 |a Текст  |c электронный 
215 |a 2 файла (292 Кб, 10.7 Мб) 
230 |a Электронные текстовые данные (2 файла : 292 Кб, 10.7 Мб) 
300 |a Заглавие с титульного листа 
300 |a Электронная версия печатной публикации 
320 |a [Библиогр.: с. 54-55 (6 назв.)] 
330 |a Получены общие выражения для расчета величин необходимого напряжения на плоском инфлекторе, на цилиндрическом инфлекторе и на цилиндрическом инфлекторе обратной кривизны. При этом учтен потенциал пространства между пластинами инфлектора. Показано, что отношение необходимого напряжения на инжекторе не зависит ни от величины магнитного поля в момент инжекции, ни от скорости инжектируемых электронов. Это позволяет упростить схему питания высоковольтного инжекторного устройства. 
337 |a Adobe Reader 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\book\200995  |t Известия Томского политехнического института [Известия ТПИ]  |f Томский политехнический институт (ТПИ)  |d 1944-1976 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\book\259181  |t Т. 279 : Бетатроны  |v [С. 47-55]  |d 1974  |p 148 с. 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
675 |a 621.314.2:621.384.613  |v 3 
700 1 |a Окулов  |b Б. В. 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20090320  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20130530  |g PSBO 
856 4 |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/1974/v279/09_bw.pdf  |z Черно-белая версия для предварительного просмотра 
856 4 |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/1974/v279/09_full.pdf  |z Цветная версия без потери качества 
942 |c CF