Исследование экранированного ВЧ факельного разряда СВЧ и спектральным методами; Известия Томского политехнического института [Известия ТПИ]; Т. 276 : Автоматизация и интенсификация производственных процессов

Detalles Bibliográficos
Parent link:Известия Томского политехнического института [Известия ТПИ]/ Томский политехнический институт (ТПИ).— , 1944-1976
Т. 276 : Автоматизация и интенсификация производственных процессов.— 1976.— [С. 70-73]
Outros autores: Тихомиров И. А. Иван Арсентьевич, Тихомиров В. В., Федянин В. Я., Соловьев А. А., Пуговкин М. М., Кузьминых А. И., Синицын Н. М.
Summary:Заглавие с титульного листа
Электронная версия печатной публикации
Описана методика и приведены результаты измерений газовой температуры в диапазоне давлений 100-760 мм рт. ст. для воздушной плазмы и плазмы смеси воздуха и продуктов разложения органического диэлектрика в металлическом в. ч. факельном плазмотроне. Изложено описание установки для определения электронной плотности и эффективной частоты столкновений электронов с тяжелыми частицами с. в. ч. методами.
Idioma:ruso
Publicado: 1976
Subjects:
Acceso en liña:Черно-белая версия для предварительного просмотра
Цветная версия без потери качества
Formato: MixedMaterials Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=237455