Формирование многослойной резистивной маски с использованием термического оплавления для создания субмикронного Т-образного затвора транзистора; Современные техника и технологии; Т. 3 - Гребнева Ю. Ю. (Секция 12: Наноматериалы, нанотехнологии и новая энергетика, 2012)
Заглавие с титульного листа