Формирование многослойной резистивной маски с использованием термического оплавления для создания субмикронного Т-образного затвора транзистора; Современные техника и технологии; Т. 3
| Parent link: | Современные техника и технологии: сборник трудов XVIII международной научно-практической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, Томск, 9-13 апреля 2012 г/ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2012 Т. 3.— 2012.— [С. 347-348] |
|---|---|
| Egile nagusia: | |
| Erakunde egilea: | |
| Beste egile batzuk: | , |
| Gaia: | Заглавие с титульного листа |
| Hizkuntza: | errusiera |
| Argitaratua: |
2012
|
| Saila: | Секция 12: Наноматериалы, нанотехнологии и новая энергетика |
| Gaiak: | |
| Sarrera elektronikoa: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Conferences/2012/C2/V3/v3_168.pdf |
| Formatua: | Baliabide elektronikoa Liburu kapitulua |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=226814 |
| Deskribapen fisikoa: | 1 файл (754 Kb) |
|---|---|
| Gaia: | Заглавие с титульного листа |