Применение теории многократного рассеяния к процессам взаимодействия электронов с водородной подсистемой металлов; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 318, № 2 : Математика и механика. Физика

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
Parent link:Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000-
Т. 318, № 2 : Математика и механика. Физика.— 2011.— [С. 93-96]
অন্যান্য লেখক: Горячев Б. В. Борис Валентинович, Ларионов В. В. Виталий Васильевич, Могильницкий С. Б. Сергей Борисович, Склярова Е. А. Елена Александровна, Чернов И. П. Иван Петрович
সংক্ষিপ্ত:Заглавие с титульного листа
Электронная версия печатной публикации
Рассмотрено возбуждение водородной подсистемы металлов при их облучении электронами. Показано, что поглощение энергии внешнего воздействия зависит не только от микрофизических параметров элементов системы, но и от ее размеров и структуры, что может быть определяющим при оценке процессов, сопровождающих облучение. Обсуждается механизм увеличения энергии дейтронов. Увеличение энергии обеспечивается многократным рассеянием и переизлучением возмущения в виде плазмонов и осцилляций электронной плотности, распространяющихся по всей среде при радиационном внешнем воздействии.
ভাষা:রুশ
প্রকাশিত: 2011
মালা:Математика и механика. Физика
বিষয়গুলি:
অনলাইন ব্যবহার করুন:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2011/v318/i2/20.pdf
বিন্যাস: বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায়
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=194664
বিবরন
দৈহিক বর্ননা:1 файл (241 Кб)
সংক্ষিপ্ত:Заглавие с титульного листа
Электронная версия печатной публикации
Рассмотрено возбуждение водородной подсистемы металлов при их облучении электронами. Показано, что поглощение энергии внешнего воздействия зависит не только от микрофизических параметров элементов системы, но и от ее размеров и структуры, что может быть определяющим при оценке процессов, сопровождающих облучение. Обсуждается механизм увеличения энергии дейтронов. Увеличение энергии обеспечивается многократным рассеянием и переизлучением возмущения в виде плазмонов и осцилляций электронной плотности, распространяющихся по всей среде при радиационном внешнем воздействии.