Особенности затухания электромагнитного поля в плазме высокочастотного емкостного разряда; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 318, № 2 : Математика и механика. Физика

Manylion Llyfryddiaeth
Parent link:Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000-
Т. 318, № 2 : Математика и механика. Физика.— 2011.— [С. 81-85]
Awduron Eraill: Власов В. А. Виктор Алексеевич, Луценко Ю. Ю. Юрий Юрьевич, Корепанова Н. В., Зеленецкая Е. П. Екатерина Петровна
Crynodeb:Заглавие с титульного листа
Электронная версия печатной публикации
Приведены результаты измерений осевого распределения гармонических составляющих электрического поля емкостного разряда, горящего в среде аргона и воздуха, при изменении частоты основной гармоники. Установлен полирезонансный характер затухания гармоник в плазме разряда. Рассмотрено влияние температуры электронов, и соответственно концентрации электронов плазмы разряда на затухание частотных составляющих. Установлен аномальный рост третьей гармонической составляющей электрического поля при уменьшении электронной температуры плазмы разряда.
Iaith:Rwseg
Cyhoeddwyd: 2011
Cyfres:Математика и механика. Физика
Pynciau:
Mynediad Ar-lein:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2011/v318/i2/17.pdf
Fformat: Electronig Pennod Llyfr
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=194651
Disgrifiad
Disgrifiad Corfforoll:1 файл (96 Кб)
Crynodeb:Заглавие с титульного листа
Электронная версия печатной публикации
Приведены результаты измерений осевого распределения гармонических составляющих электрического поля емкостного разряда, горящего в среде аргона и воздуха, при изменении частоты основной гармоники. Установлен полирезонансный характер затухания гармоник в плазме разряда. Рассмотрено влияние температуры электронов, и соответственно концентрации электронов плазмы разряда на затухание частотных составляющих. Установлен аномальный рост третьей гармонической составляющей электрического поля при уменьшении электронной температуры плазмы разряда.