Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления; Магнетронные распылительные системы

Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления; Магнетронные распылительные системы

Dades bibliogràfiques
Parent link:	Магнетронные распылительные системы/ А. И. Кузьмичев. Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления.— , 2008
Sumari:	Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких плёнок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся в области электронных физико-технических устройств и ионно-плазменных технологий для электроники, оптики и машиностроения.
Idioma:	rus
Publicat:	2008
Matèries:	Плазменная металлизация магнетронное распыление ионное распыление газовый разряд магнетронный разряд магнетронные распылительные системы разновидности импульсные МРС
Format:	MixedMaterials Llibre
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=186951

Ítems similars

Высокоскоростное осаждение покрытий на основе соединений хрома и азота с использованием плазмы магнетронных распылительных систем: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 1.3.8
per: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Publicat: (Томск, [Б. и.], 2022)

Магнетронные распылительные системы
per: Данилин Б. С. Борис Степанович
Publicat: (Москва, Радио и связь, 1982)

Исследование биоэлектрической совместимости тонких кальций-фосфатных покрытий, полученных методом высокочастотного магнетронного распыления; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 319, № 2 : Математика и механика. Физика
Publicat: (2011)

Нанесение медного покрытия на алюминиевые контактные поверхности плазмодинамическим методом: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 05.14.12
per: Шаненкова Ю. Л. Юлия Леонидовна
Publicat: (Томск, [Б. и.], 2019)

Разработка спеченных Ti-Cu, Ti-Si катодов для ионно- плазменного нанесения наноструктурных нитридных покрытий: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 05.16.09
per: Гурских А. В. Алексей Валерьевич
Publicat: (Томск, 2012)

Высокоскоростное осаждение покрытий на основе соединений хрома и азота с использованием плазмы магнетронных распылительных систем: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 1.3.8
per: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Publicat: (Томск, 2022)

Высокоскоростное осаждение покрытий на основе соединений хрома и азота с использованием плазмы магнетронных распылительных систем: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 1.3.8
per: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Publicat: (Томск, 2022)

Плазменные покрытия (методы и оборудование): учебное пособие
per: Кривобоков В. П. Валерий Павлович
Publicat: (Томск, Изд-во ТПУ, 2008)

Влияние плотности мощности магнетронного диода на скорость осаждения и фазовый состав CrNX покрытий; Современные проблемы машиностроения
per: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Publicat: (2021)

Распыление мишени при ассистировании магнетронного разряда ионным пучком; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 307, № 7
per: Жуков В. В. Владислав Вячеславович
Publicat: (2004)

Влияние ИМПА магнетронного диода свойства никелевых пленок; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
per: Целовальникова А. Е.
Publicat: (2019)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
per: Рогожников Д. С.
Publicat: (2016)

Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
Publicat: (2019)

Закономерности роста кальций-фосфатных покрытий, осажденных из плазмы ВЧ-магнетронного разряда; Современные техника и технологии; Т. 2
per: Иванова А. А. Анна Александровна
Publicat: (2012)

Управление напряженным состоянием и свойства плазменных покрытий
per: Барвинок В. А. Виталий Алексеевич
Publicat: (Москва, Машиностроение, 1990)

Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
per: Зайцев Даниил Дмитриевич Д. Д.
Publicat: (2023)

Плазменные порошковые покрытия
per: Борисов Ю. С. Юрий Сергеевич
Publicat: (Киев, Технiка, 1986)

Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
per: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Publicat: (Томск, 2018)

Физико-механические характеристики ВЧ-магнетронных покрытий на основе серебросодержащего гидроксиапатита; Известия вузов. Физика; Т. 56, № 10
Publicat: (2013)

Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем; Современные техника и технологии - СТТ' 2002; Т. 1
per: Арсланов И. Р.
Publicat: (2002)

Металлизация методом магнетронного напыления пластин из пластика, изготовленных на 3D-принтере; Materials. Technologies. Design; Т. 5, № 3
Publicat: (2023)

Теоретические исследования и практическое применение плазменных износостойких покрытий
Publicat: (Свердловск, Изд-во НЦ АН СССР, 1983)

Измеритель мощности для установки высокочастотного катодного распыления; Приборы и техника эксперимента; № 1
per: Нагорный А. Г.
Publicat: (2003)

Свойства магнетронного разряда на постоянном токе; Ч. 1; Механизм распыления мишени; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 308, № 6
Publicat: (2005)

Структура и свойства тонких пленок ZrO[2]:Y[2]O[3], формируемых методом магнетронного распыления: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
per: Шипилова А. В. Анна Викторовна
Publicat: (Томск, 2018)

Зависимость скорости нанесения покрытий от параметров магнетронного разряда; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1
per: Шабунин А. С. Артём Сергеевич
Publicat: (2009)

Плазменная технология в машиностроении: [монография]
per: Стацура В. В. Вениамин Вениаминович
Publicat: (Красноярск, Изд-во Красноярского ун-та, 1990)

Электрический потенциал тонкого биоактивного покрытия на основе цинк-замещенного гидроксиапатита, полученного на титане методом ВЧ магнетронного распыления; Современные технологии и материалы новых поколений
per: Просолов К. А. Константин Александрович
Publicat: (2017)

Растворение in vitro, структурные и электрокинетические характеристики оксинитридных покрытий титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления; Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования; № 3
Publicat: (2016)

Магнетронная распылительная система на жидкофазных и твёрдых мишенях в сочетании с внешним пучком ускоренных ионов; Современные техника и технологии; Т. 3
per: Жукова М. А.
Publicat: (2007)

Features of microstructure of ZrN, Si3N4 and ZrN/SiNx nanoscale films irradiated by Xe ions; Vacuum; Vol. 143
Publicat: (2017)

Морфология поверхности покрытий оксидов и/или оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления; Перспективы развития фундаментальных наук
per: Арышева Г. В. Галина Владиславовна
Publicat: (2014)

Зависимость режимов осаждения оксида титана от параметров источника питания МРС; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
per: Андреева М. А.
Publicat: (2016)

Оптические характеристики плазмы магнетронного разряда в условиях осаждения оксидов и оксинитридов титана; Современные техника и технологии; Т. 3
per: Гребнева И. А. Ирина Андреевна
Publicat: (2010)

Морфология поверхности покрытий на основе оксидов и оксинитридов титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления; Перспективы развития фундаментальных наук
per: Гребнева И. А. Ирина Андреевна
Publicat: (2012)

Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления; Современные материалы и технологии новых поколений
per: Зелецов Д.
Publicat: (2019)

Исследование влияния отрицательного смещения подложки на параметры плазмы ВЧ-магнетронного распыления методом двойного зонда Ленгмюра; Функциональные материалы: разработка, исследование, применение
per: Мухаметкалиев Т. М. Тимур Мухамедрашидович
Publicat: (2014)

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
per: Берлин Е. В. Евгений Владимирович
Publicat: (Москва, Техносфера, 2010)

Структура и свойства тонких пленок ZrO[2]:Y[2]O[3], формируемых методом магнетронного распыления: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
per: Шипилова А. В. Анна Викторовна
Publicat: (Томск, 2018)

Кремнийсодержащее кальций-фосфатное покрытие, сформированное методом ВЧ-магнетронного распыления; Современные техника и технологии; Т. 2
per: Сурменева М. А. Мария Александровна
Publicat: (2010)