|
|
|
|
| LEADER |
00000nam2a2200000 4500 |
| 001 |
186951 |
| 005 |
20231101224028.0 |
| 010 |
|
|
|a 9668934075
|
| 035 |
|
|
|a (RuTPU)RU\TPU\book\202845
|
| 090 |
|
|
|a 186951
|
| 100 |
|
|
|a 20101108d2008 k y0rusy50 ca
|
| 101 |
0 |
|
|a rus
|
| 102 |
|
|
|a UA
|
| 105 |
|
|
|a a z 001zy
|
| 200 |
0 |
|
|a Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления
|
| 210 |
|
|
|d 2008
|
| 215 |
|
|
|a 245 с.
|c ил.
|
| 320 |
|
|
|a Библиогр.: с. 215-244.
|
| 330 |
|
|
|a Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких плёнок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся в области электронных физико-технических устройств и ионно-плазменных технологий для электроники, оптики и машиностроения.
|
| 461 |
|
1 |
|0 (RuTPU)RU\TPU\book\215492
|t Магнетронные распылительные системы
|f А. И. Кузьмичев
|v Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления
|d 2008
|
| 606 |
1 |
|
|a Плазменная металлизация
|2 stltpush
|3 (RuTPU)RU\TPU\subj\48948
|9 67764
|
| 610 |
1 |
|
|a магнетронное распыление
|
| 610 |
1 |
|
|a ионное распыление
|
| 610 |
1 |
|
|a газовый разряд
|
| 610 |
1 |
|
|a магнетронный разряд
|
| 610 |
1 |
|
|a магнетронные распылительные системы
|
| 610 |
1 |
|
|a разновидности
|
| 610 |
1 |
|
|a импульсные МРС
|
| 675 |
|
|
|a 621.793.74
|v 3
|
| 801 |
|
1 |
|a RU
|b 63413507
|c 20101108
|
| 801 |
|
2 |
|a RU
|b 63413507
|c 20170331
|g RCR
|
| 942 |
|
|
|c BK
|
| 959 |
|
|
|a 81/20101108
|d 3
|e 0
|f АНЛ:1
|f ЧЗТЛ:1
|f УФ:1
|
