Применение высокочастотного короткоимпульсного потенциала смещения для ионно-лучевой и плазменной обработки проводящих и диэлектрических материалов; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 316, № 4: Энергетика
| Parent link: | Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000- Т. 316, № 4: Энергетика.— 2010.— [С. 85-89] |
|---|---|
| Prif Awdur: | |
| Awduron Eraill: | |
| Crynodeb: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Приведены результаты исследований применимости метода высокочастотной короткоимпульсной плазменно-иммерсионной ионной имплантации и/или осаждения покрытий с использованием вакуумно-дуговой и абляционной плазмы к проводящим и диэлектрическим подложкам. Показано, что ионная имплантация с компенсацией ионного распыления осаждением покрытия из плазмы и ионно-ассистированное осаждение покрытия могут быть реализованы для металлических и диэлектрических образцов посредством изменения отрицательного потенциала смещения в диапазоне 0...4 кВ при частоте повторения импульсов (2...4,4).105 имп/с, длительности импульса 0,5...2 мкс и коэффициенте заполнения импульсов 0,1...0,9. Экспериментально установлено, что при осаждении покрытий из абляционной плазмы, полученной воздействием высокоинтенсивного ионного пучка длительностью 90 нс, с плотностью тока 3.10-2 А/м2 и энергией ионов 350 кэВ на мишень, микродуговые явления на поверхности подложки наблюдаются при постоянном потенциале смещения более -60 В. Переход на импульсы длительностью 0,5 мкс позволил увеличить потенциал смещения до -4 кВ. Обсуждается возможность применения высокочастотных, короткоимпульсных потенциалов смещения для формирования покрытий из вакуумно-дуговой и абляционной плазмы с высокой адгезионной прочностью и улучшенными эксплуатационными характеристиками. |
| Iaith: | Rwseg |
| Cyhoeddwyd: |
2010
|
| Cyfres: | Энергетика |
| Pynciau: | |
| Mynediad Ar-lein: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2010/v316/i4/18.pdf |
| Fformat: | Electronig Pennod Llyfr |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=183143 |
MARC
| LEADER | 00000nla2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 183143 | ||
| 005 | 20240209123434.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\book\198523 | ||
| 035 | |a RU\TPU\book\198516 | ||
| 090 | |a 183143 | ||
| 100 | |a 20100701d2010 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drnn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Применение высокочастотного короткоимпульсного потенциала смещения для ионно-лучевой и плазменной обработки проводящих и диэлектрических материалов |f А. И. Рябчиков, И. Б. Степанов | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 215 | |a 1 файл (659 Кб) | ||
| 225 | 1 | |a Энергетика | |
| 300 | |a Заглавие с титульного листа | ||
| 300 | |a Электронная версия печатной публикации | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 89 (16 назв.)] | ||
| 330 | |a Приведены результаты исследований применимости метода высокочастотной короткоимпульсной плазменно-иммерсионной ионной имплантации и/или осаждения покрытий с использованием вакуумно-дуговой и абляционной плазмы к проводящим и диэлектрическим подложкам. Показано, что ионная имплантация с компенсацией ионного распыления осаждением покрытия из плазмы и ионно-ассистированное осаждение покрытия могут быть реализованы для металлических и диэлектрических образцов посредством изменения отрицательного потенциала смещения в диапазоне 0...4 кВ при частоте повторения импульсов (2...4,4).105 имп/с, длительности импульса 0,5...2 мкс и коэффициенте заполнения импульсов 0,1...0,9. Экспериментально установлено, что при осаждении покрытий из абляционной плазмы, полученной воздействием высокоинтенсивного ионного пучка длительностью 90 нс, с плотностью тока 3.10-2 А/м2 и энергией ионов 350 кэВ на мишень, микродуговые явления на поверхности подложки наблюдаются при постоянном потенциале смещения более -60 В. Переход на импульсы длительностью 0,5 мкс позволил увеличить потенциал смещения до -4 кВ. Обсуждается возможность применения высокочастотных, короткоимпульсных потенциалов смещения для формирования покрытий из вакуумно-дуговой и абляционной плазмы с высокой адгезионной прочностью и улучшенными эксплуатационными характеристиками. | ||
| 337 | |a Adobe Reader | ||
| 461 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\book\176237 |t Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ] |f Томский политехнический университет (ТПУ) |d 2000- | |
| 463 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\book\198468 |x 1684-8519 |t Т. 316, № 4: Энергетика |v [С. 85-89] |d 2010 |p 214 с. | |
| 610 | 1 | |a металлическая плазма | |
| 610 | 1 | |a абляционная плазма | |
| 610 | 1 | |a иммерсионная ионная имплантация | |
| 610 | 1 | |a поверхности | |
| 610 | 1 | |a модификация | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 700 | 1 | |a Рябчиков |b А. И. |c физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1950- |g Александр Ильич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22006 | |
| 701 | 1 | |a Степанов |b И. Б. |c физик |c заведующий лабораторией Томского политехнического университета, доктор технических наук |f 1968- |g Игорь Борисович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26466 |9 12169 | |
| 801 | 1 | |a RU |b 63413507 |c 20090623 |g PSBO | |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20211222 |g PSBO | |
| 856 | 4 | |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2010/v316/i4/18.pdf | |
| 942 | |c CF | ||