Формирование тонких пленок в силикофосфатной системе; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 316, № 3: Химия
| Parent link: | Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000- Т. 316, № 3: Химия.— 2010.— [С. 23-27] |
|---|---|
| מחבר ראשי: | |
| מחברים אחרים: | , |
| סיכום: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Золь-гель методом синтезированы тонкие пленки в системе SiO2 - P2O5. Изучены физико-химические процессы в растворах, а также при термической обработке пленок. Определены условия получения пленок разной толщины. Рассчитаны кинетические параметры, и проведен сравнительный анализ процессов синтеза SiO2 в тонкой пленке и дисперсной фазе. |
| שפה: | רוסית |
| יצא לאור: |
2010
|
| סדרה: | Химия |
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2010/v316/i3/04.pdf |
| פורמט: | אלקטרוני Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=182872 |
| תיאור פיזי: | 1 файл (232 Кб) |
|---|---|
| סיכום: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Золь-гель методом синтезированы тонкие пленки в системе SiO2 - P2O5. Изучены физико-химические процессы в растворах, а также при термической обработке пленок. Определены условия получения пленок разной толщины. Рассчитаны кинетические параметры, и проведен сравнительный анализ процессов синтеза SiO2 в тонкой пленке и дисперсной фазе. |