Процессы микро- и нанотехнологии. Ионно-плазменные процессы: лабораторный практикум

Detalles Bibliográficos
Autor Corporativo: Московский государственный институт стали и сплавов (МИСиС)
Outros autores: Кузнецов Г. Д. Геннадий Дмитриевич, Курочка С. П. Сергей Петрович, Кушхов А. Р. Аскер Русланович, Демченкова Д. Н. Дарья Николаевна, Курочка А. С. Александр Сергеевич
Summary:Лабораторный практикум выполняется по курсам «Основы высоких технологий», «Процессы микро- и нанотехнологии» и «Микротехнология слоистых материалов и покрытий». В нем рассматриваются основы физики взаимодействия ускоренных низкоэнергетических ионов с твердым телом, практические возможности использования эффектов ионного воздействия для получения и травления микро- и наноразмерных пленочных гетерокомпозиций. Приводится методика расчета параметров различных технологических ионно-плазменных процессов обработки тонких пленок и покрытий. Дается методика определения экспериментальных параметров процессов осаждения и травления на реальных промышленных установках. Практикум предназначен для студентов и магистров, обучающихся по направлению «Электроника и наноэлектроника», специальности 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника».
Idioma:ruso
Publicado: Москва, Учеба, 2007
Subjects:
Formato: Libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=177795

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 4500
001 177795
005 20231101223348.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\192769 
090 |a 177795 
100 |a 20100325d2007 m y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a a j 001zy 
200 1 |a Процессы микро- и нанотехнологии. Ионно-плазменные процессы  |e лабораторный практикум  |f Г. Д. Кузнецов [и др.]  |g Московский государственный институт стали и сплавов (МИСиС) 
210 |a Москва  |c Учеба  |d 2007 
215 |a 141 с.  |c ил. 
320 |a Библиогр.: с. 140. 
330 |a Лабораторный практикум выполняется по курсам «Основы высоких технологий», «Процессы микро- и нанотехнологии» и «Микротехнология слоистых материалов и покрытий». В нем рассматриваются основы физики взаимодействия ускоренных низкоэнергетических ионов с твердым телом, практические возможности использования эффектов ионного воздействия для получения и травления микро- и наноразмерных пленочных гетерокомпозиций. Приводится методика расчета параметров различных технологических ионно-плазменных процессов обработки тонких пленок и покрытий. Дается методика определения экспериментальных параметров процессов осаждения и травления на реальных промышленных установках. Практикум предназначен для студентов и магистров, обучающихся по направлению «Электроника и наноэлектроника», специальности 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника». 
606 1 |a Наноэлектроника  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\58929  |9 76611 
610 1 |a микроразмерные пленочные гетерокомпозиции 
610 1 |a наноразмерные пленочные гетерокомпозиции 
610 1 |a травление 
610 1 |a ионно-плазменные технологии 
610 1 |a металлические пленки 
610 1 |a магнетронное распыление 
610 1 |a катодное распыление 
610 1 |a электронная эмиссия 
610 1 |a электроискровое нанесение 
610 1 |a плазмохимическое травление 
610 1 |a лабораторные работы 
610 1 |a лабораторные практикумы 
610 1 |a учебные пособия 
675 |a 621.382:53(076.5)  |v 3 
701 1 |a Кузнецов  |b Г. Д.  |g Геннадий Дмитриевич 
701 1 |a Курочка  |b С. П.  |g Сергей Петрович 
701 1 |a Кушхов  |b А. Р.  |g Аскер Русланович 
701 1 |a Демченкова  |b Д. Н.  |g Дарья Николаевна 
701 1 |a Курочка  |b А. С.  |g Александр Сергеевич 
712 0 2 |a Московский государственный институт стали и сплавов (МИСиС)  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\180 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20100325 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20130603  |g RCR 
942 |c BK 
959 |a 22/20100324  |d 1  |e 280,00  |f ЧЗТЛ:1