|
|
|
|
| LEADER |
00000nam0a2200000 4500 |
| 001 |
176098 |
| 005 |
20231101223245.0 |
| 010 |
|
|
|a 9785948362229
|
| 035 |
|
|
|a (RuTPU)RU\TPU\book\190921
|
| 090 |
|
|
|a 176098
|
| 100 |
|
|
|a 20100224d2010 km y0rusy50 ca
|
| 101 |
0 |
|
|a rus
|
| 102 |
|
|
|a RU
|
| 105 |
|
|
|a a z 001zy
|
| 200 |
1 |
|
|a Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
|f Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман
|
| 210 |
|
|
|a Москва
|c Техносфера
|d 2010
|
| 215 |
|
|
|a 528 с.
|c ил.
|
| 225 |
1 |
|
|a Мир материалов и технологий
|
| 320 |
|
|
|a Библиография в конце глав.
|
| 330 |
|
|
|a Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
|
| 606 |
1 |
|
|a Тонкопленочная технология
|2 stltpush
|3 (RuTPU)RU\TPU\subj\60919
|9 78140
|
| 606 |
1 |
|
|a Плазменное напыление
|x Физико-химические процессы
|2 stltpush
|3 (RuTPU)RU\TPU\subj\48962
|9 67777
|
| 610 |
1 |
|
|a магнетроны
|
| 610 |
1 |
|
|a пробой
|
| 610 |
1 |
|
|a классификация
|
| 610 |
1 |
|
|a питание
|
| 610 |
1 |
|
|a магнетронное распыление
|
| 610 |
1 |
|
|a реактивное распыление
|
| 610 |
1 |
|
|a стабилизация
|
| 610 |
1 |
|
|a тонкие пленки
|
| 610 |
1 |
|
|a тройные соединения
|
| 610 |
1 |
|
|a сложные химические соединения
|
| 610 |
1 |
|
|a пленки
|
| 610 |
1 |
|
|a реактивный разряд
|
| 610 |
1 |
|
|a моделирование
|
| 610 |
1 |
|
|a вакуумные напылительные установки
|
| 610 |
1 |
|
|a ионное травление
|
| 610 |
1 |
|
|a плазмохимическое травление
|
| 610 |
1 |
|
|a вакуумные установки
|
| 610 |
1 |
|
|a источники
|
| 675 |
|
|
|a 621.382.049.772
|v 3
|
| 675 |
|
|
|a 621.793.74
|v 3
|
| 700 |
|
1 |
|a Берлин
|b Е. В.
|g Евгений Владимирович
|
| 701 |
|
1 |
|a Сейдман
|b Л. А.
|g Лев Александрович
|
| 801 |
|
1 |
|a RU
|b 63413507
|c 20100224
|
| 801 |
|
2 |
|a RU
|b 63413507
|c 20160908
|g RCR
|
| 942 |
|
|
|c BK
|
| 959 |
|
|
|a 5/20100224
|d 3
|e 550,00
|f АНЛ:1
|f ЧЗТЛ:1
|f УФ:1
|
