Моделирование двойного электрического слоя в диоде, заполненном плазмой инертных газов; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 313, № 2: Математика и механика. Физика
| Parent link: | Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000- Т. 313, № 2: Математика и механика. Физика.— 2008.— [С. 67-69] |
|---|---|
| Egile nagusia: | |
| Beste egile batzuk: | , |
| Gaia: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Рассмотрена задача моделирования формирования двойного электрического слоя в диоде, заполненном гелиевой или аргоновой плазмой низкой плотности. Дается описание численной модели, разработанной в среде MatLab. Приведены результаты моделирования параметров двойного слоя и напряженности электрического поля на катоде. Определено влияние различных параметров плазмы и ускоряющего напряжения на процесс формирования двойного слоя и распределение потенциала. |
| Hizkuntza: | errusiera |
| Argitaratua: |
2008
|
| Saila: | Математика и механика. Физика |
| Gaiak: | |
| Sarrera elektronikoa: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2008/v313/i2/16.pdf |
| Formatua: | Baliabide elektronikoa Liburu kapitulua |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=173476 |
| Deskribapen fisikoa: | 1 файл (391 Кб) |
|---|---|
| Gaia: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Рассмотрена задача моделирования формирования двойного электрического слоя в диоде, заполненном гелиевой или аргоновой плазмой низкой плотности. Дается описание численной модели, разработанной в среде MatLab. Приведены результаты моделирования параметров двойного слоя и напряженности электрического поля на катоде. Определено влияние различных параметров плазмы и ускоряющего напряжения на процесс формирования двойного слоя и распределение потенциала. |