Исследование условий получения нанопорошка CeGdO с помощью излучения эксимерного лазера
| Источник: | Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000- Т. 312, № 2 : Математика и механика. Физика.— 2008.— [С. 140-142] |
|---|---|
| Другие авторы: | , , , , |
| Примечания: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Исследуется эффективность получения нанопорошка CeGdO при воздействии излучением XeCl лазера на твердотельный образец CeO2/Gd2O3. Показывается, что при увеличении плотности энергии накачки выше оптимальной эффективность образования нанопорошка снижается за счет повышения экранирующих свойств лазерной плазмы. Определен оптимальный диапазон плотностей энергии излучения для взаимодействия с поверхностью образца, который составил 40...90 Дж/см2. |
| Язык: | русский |
| Опубликовано: |
2008
|
| Серии: | Математика и механика. Физика |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2008/v312/i2/32.pdf |
| Формат: | Электронный ресурс Статья |
| Запись в KOHA: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=172951 |
| Объем: | 1 файл (405 Кб) |
|---|---|
| Примечания: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Исследуется эффективность получения нанопорошка CeGdO при воздействии излучением XeCl лазера на твердотельный образец CeO2/Gd2O3. Показывается, что при увеличении плотности энергии накачки выше оптимальной эффективность образования нанопорошка снижается за счет повышения экранирующих свойств лазерной плазмы. Определен оптимальный диапазон плотностей энергии излучения для взаимодействия с поверхностью образца, который составил 40...90 Дж/см2. |