Изменение микротвердости ферритовой керамики при облучении сильноточным импульсным пучком низкоэнергетических электронов; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 308, № 7
| Parent link: | Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000- Т. 308, № 7.— 2005.— [С. 23-27] |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | , , , , |
| الملخص: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Изучено влияние сильноточного импульсного пучка низкоэнергетических электронов на изменение микротвердости приповерхностных слоев ферритовой керамики. Установлено существование зависимости измеряемой микротвердости от величины нагрузки на индентор за счет упругого восстановления отпечатка (масштабный эффект). Показано, что в зависимости от количества импульсов электронного воздействия измеренное значение микротвердости может как уменьшаться (одноимпульсное облучение), так и возрастать (10 импульсов) по отношению к исходному состоянию образца. Анализ результатов проведен с учетом вклада упругого восстановления отпечатка индентора в эффекты радиационного изменения микротвердости керамики. |
| اللغة: | الروسية |
| منشور في: |
2005
|
| سلاسل: | Естественные науки |
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2005/v308/i7/05.pdf |
| التنسيق: | الكتروني فصل الكتاب |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=170960 |
| وصف مادي: | 1 файл (117 Кб) |
|---|---|
| الملخص: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Изучено влияние сильноточного импульсного пучка низкоэнергетических электронов на изменение микротвердости приповерхностных слоев ферритовой керамики. Установлено существование зависимости измеряемой микротвердости от величины нагрузки на индентор за счет упругого восстановления отпечатка (масштабный эффект). Показано, что в зависимости от количества импульсов электронного воздействия измеренное значение микротвердости может как уменьшаться (одноимпульсное облучение), так и возрастать (10 импульсов) по отношению к исходному состоянию образца. Анализ результатов проведен с учетом вклада упругого восстановления отпечатка индентора в эффекты радиационного изменения микротвердости керамики. |