Свойства магнетронного разряда на постоянном токе

Մատենագիտական մանրամասներ
Parent link:Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000-
Т. 308, № 6.— 2005.— [С. 69-74]
Այլ հեղինակներ: Жуков В. В., Кривобоков В. П. Валерий Павлович, Пацевич В. В. Василий Викторович, Янин С. Н. Сергей Николаевич
Ամփոփում:Заглавие с титульного листа
Электронная версия печатной публикации
Выполнены зондовые измерения пространственного распределения электрического потенциала в магнетронном диоде на постоянном токе вблизи катода. Вычислены скорость ионизации рабочего газа, концентрация плазмы в зависимости от тока разряда, координатное распределение ионной и электронной компонент разрядного тока, энергетическое распределение ускоренных ионов аргона на поверхности мишени. Показано, что основные процессы в плазме, приводящие к распылению, протекают в приповерхностном слое мишени толщиной несколько мм.
Լեզու:ռուսերեն
Հրապարակվել է: 2005
Շարք:Технические науки
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2005/v308/i6/14.pdf
Ձևաչափ: Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=170814
Նկարագրություն
Ֆիզիկական նկարագրություն:1 файл (472 Кб)
Ամփոփում:Заглавие с титульного листа
Электронная версия печатной публикации
Выполнены зондовые измерения пространственного распределения электрического потенциала в магнетронном диоде на постоянном токе вблизи катода. Вычислены скорость ионизации рабочего газа, концентрация плазмы в зависимости от тока разряда, координатное распределение ионной и электронной компонент разрядного тока, энергетическое распределение ускоренных ионов аргона на поверхности мишени. Показано, что основные процессы в плазме, приводящие к распылению, протекают в приповерхностном слое мишени толщиной несколько мм.