Свойства магнетронного разряда на постоянном токе; Ч. 1; Механизм распыления мишени; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 308, № 6
| Parent link: | Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000- Т. 308, № 6.— 2005.— [С. 69-74] |
|---|---|
| Beste egile batzuk: | , , , |
| Gaia: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Выполнены зондовые измерения пространственного распределения электрического потенциала в магнетронном диоде на постоянном токе вблизи катода. Вычислены скорость ионизации рабочего газа, концентрация плазмы в зависимости от тока разряда, координатное распределение ионной и электронной компонент разрядного тока, энергетическое распределение ускоренных ионов аргона на поверхности мишени. Показано, что основные процессы в плазме, приводящие к распылению, протекают в приповерхностном слое мишени толщиной несколько мм. |
| Hizkuntza: | errusiera |
| Argitaratua: |
2005
|
| Saila: | Технические науки |
| Gaiak: | |
| Sarrera elektronikoa: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2005/v308/i6/14.pdf |
| Formatua: | Baliabide elektronikoa Liburu kapitulua |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=170814 |
| Deskribapen fisikoa: | 1 файл (472 Кб) |
|---|---|
| Gaia: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Выполнены зондовые измерения пространственного распределения электрического потенциала в магнетронном диоде на постоянном токе вблизи катода. Вычислены скорость ионизации рабочего газа, концентрация плазмы в зависимости от тока разряда, координатное распределение ионной и электронной компонент разрядного тока, энергетическое распределение ускоренных ионов аргона на поверхности мишени. Показано, что основные процессы в плазме, приводящие к распылению, протекают в приповерхностном слое мишени толщиной несколько мм. |